温度: 3,000, 2,400 °C
容量: 9.5, 2.5 l
幅: 1,300, 1,400, 1,500 mm
SVHT シリーズのレトルト炉は VHT機種 (62 ページ以降) と比較して、真空度や最高温度の性能が更に優れています。タングステンヒーターを装備した SVHT ..-W シャフト炉は、高真空度でも最高温度 2400 ℃のプロセスが可能です。黒鉛ヒーターを装備したシャフト炉 SVHT ..-GR 機種は希ガス雰囲気では最高温度 3000 ℃のプロセスも可能です。 • 標準型炉室容量は 2 または 9 リットル • 上から装入するシャフト炉 • ステンレスプレートを組み込んだフレーム構造 • ...
Nabertherm
温度: 2,000, 1,600 °C
容量: 100, 250, 600 l
高さ: 700, 900, 1,200 mm
LBVHT シリーズの昇降底型レトルト炉は、保護/反応ガスまたは真空下で行わなければならない生産内のプロセスに適しています。 基本的な性能データについては、VHT モデルと同様の設計です。サイズ、および、電気油圧駆動式昇降底のある設計で、生産内の装入を容易にします。レトルト炉はさまざまなサイズとタイプを取り揃えています。VHT モデルの場合と同様に、これらの炉に異なる加熱コンセプトを実装できます。 • 昇降底型レトルト炉は、電気油圧駆動式昇降底のある設計となっており、生産内のワークを容易に装入できます • ...
Nabertherm
温度: 1,200 °C - 2,400 °C
容量: 2 l - 500 l
幅: 1,250 mm - 3,200 mm
VHT シリーズのコンパクトなレトルト炉は、黒鉛, モリブデン、タングステンまたは MoSi2 加熱のある電気加熱式チャンバー炉として設計されています。さまざまな加熱コンセプトと幅広いアクセサリーによって、これらのレトルト炉は技術的に厳しい要件のプロセスにも対応します。 密閉型レトルトは、炉仕様に従って、保護/反応ガス雰囲気下、または、真空での最大 10-5 mbar までの熱処理プロセスに対応します。基本炉は、不燃性保護ガスまたは反応ガスを使用する運転、あるいは、真空下での運転に適しています。H2を使用すれば、水素またはその他の可燃性ガス下で運転できます。このタイプの中核である認証されたセーフティパッケージが、常に安全運転を確保して、エラー発生時には緊急時用のプログラムが作動します。 その他の加熱仕様 通常、異なるプロセス要件では次のモデルを使用できます: 黒鉛断熱および加熱のある ...
Nabertherm
温度: 1,000 °C - 1,200 °C
... 堀場は、1000 ～ 1200 ℃ の温度を迅速に達成できるジュール加熱式水平管炉を幅広く提供しています。 必要に応じて、別のコントロールボックスを使用して垂直に取り付けることもできます。 ジュール加熱は、セラミックワークチューブ内に統合された抵抗線を介して行われます, 均質な加熱を提供します. 温度は、加熱コイルと作業管の壁の中間にしっかりと配置された熱電対を使用して監視されます。 MTFシリーズとCTFは一体部品としてワークチューブを持ち、Gシリーズは別のモジュールとしてワークチューブを持っています。 ...
温度: 5 °C - 200 °C
容量: 52, 12, 30 l
幅: 500, 600, 730 mm
... OVDシリーズ真空乾燥炉 - 乾燥や真空乾燥など、慎重に制御された処理に最適です。 - PIDマイクロプロセッサーとPT100プローブによる電子温度制御、1ランプ。 - ステンレス製チャンバーは角が丸く、クリーニングが容易。 - 外装は粉体塗装。 - 爆縮や爆発に備えた二重安全ガラスドアで最大限の保護。 - 三方バルブにより、排気、パージ、ベントが容易。 - 視覚アラーム "過熱 "サーモスタットと手動リセット。 - アナログ圧力計 - グラスファイバー断熱材 - ...
温度: 1,200 °C
幅: 200 mm
高さ: 200 mm
... 1200℃真空雰囲気箱型抵抗炉は、主に大学、科学研究機関、工場、企業などの工業研究所に高温熱処理環境を提供し、金属材料、セラミック材料、ナノ材料、半導体材料などの新素材の分野で使用できます。 特徴 炉殻 1、炉殻は金属Q235低炭素鋼で作られ、表面は静電耐食、防錆である。 2、頑丈な金属タンクシェル構造で、炉の表面温度が低い。 3、炉扉はフランジ式密閉構造で、手動ネジ締め式で、扉側面は操作しやすい。 耐火材料 多層断熱設計、軽量アルミナセラミックファイバーとその他の高品質断熱板で構成され、アスベスト成分を含まず、熱損失が少なく、エネルギー消費量が少ない。 暖房システム 1、高品質HREスパイラル抵抗線発熱体、安全且つ堅固に炉の表面に埋め込み、炉の空洞に自由放熱加熱、省エネ、高効率、長寿命。 2、三面加熱(左右と炉底)で炉内の均質性が良い。 3、炭化ケイ素の底板が底部発熱体を覆って保護し、機械的強度が高く、熱伝導率がよく、水平荷重に耐える 温度制御盤 1、PID制御器はSSRSCR制御モードで精密な温度制御を実現する。 2、国際標準N型ニッケル-クロム-シリコン熱電対、温度範囲0-1300℃、長寿命。 ...
Henan Sante Furnace Technology Co.,Ltd.
温度: 1,200 °C
幅: 200 mm
高さ: 200 mm
... 1200℃真空雰囲気箱型抵抗炉は、主に大学、科学研究機関、工場、企業などの工業研究所に高温熱処理環境を提供し、金属材料、セラミック材料、ナノ材料、半導体材料などの新素材の分野で使用できます。 特徴 炉殻 1、炉殻は金属Q235低炭素鋼で作られ、表面は静電耐食、防錆である。 2、頑丈な金属タンクシェル構造で、炉の表面温度が低い。 3、炉扉はフランジ式密閉構造で、手動ネジ締め式で、扉側面は操作しやすい。 耐火材料 多層断熱設計、軽量アルミナセラミックファイバーとその他の高品質断熱板で構成され、アスベスト成分を含まず、熱損失が少なく、エネルギー消費量が少ない。 暖房システム 1、高品質HREスパイラル抵抗線発熱体、安全且つ堅固に炉の表面に埋め込み、炉の空洞に自由放熱加熱、省エネ、高効率、長寿命。 2、三面加熱(左右と炉底)で炉内の均質性が良い。 3、炭化ケイ素の底板が底部発熱体を覆って保護し、機械的強度が高く、熱伝導率がよく、水平荷重に耐える 温度制御盤 1、PID制御器はSSRSCR制御モードで精密な温度制御を実現する。 2、国際標準N型ニッケル-クロム-シリコン熱電対、温度範囲0-1300℃、長寿命。 ...
Henan Sante Furnace Technology Co.,Ltd.
温度: 1,200 °C
幅: 300 mm
高さ: 200 mm
... 1200℃真空雰囲気箱型抵抗炉は、主に大学、科学研究機関、工場、企業などの工業研究所に高温熱処理環境を提供し、金属材料、セラミック材料、ナノ材料、半導体材料などの新素材の分野で使用できます。 特徴 炉殻 1、炉殻は金属Q235低炭素鋼で作られ、表面は静電耐食、防錆である。 2、頑丈な金属タンクシェル構造で、炉の表面温度が低い。 3、炉扉はフランジ式密閉構造で、手動ネジ締め式で、扉側面は操作しやすい。 耐火材料 多層断熱設計、軽量アルミナセラミックファイバーとその他の高品質断熱板で構成され、アスベスト成分を含まず、熱損失が少なく、エネルギー消費量が少ない。 暖房システム 1、高品質HREスパイラル抵抗線発熱体、安全且つ堅固に炉の表面に埋め込み、炉の空洞に自由放熱加熱、省エネ、高効率、長寿命。 2、三面加熱(左右と炉底)で炉内の均質性が良い。 3、炭化ケイ素の底板が底部発熱体を覆って保護し、機械的強度が高く、熱伝導率がよく、水平荷重に耐える 温度制御盤 1、PID制御器はSSRSCR制御モードで精密な温度制御を実現する。 2、国際標準N型ニッケル-クロム-シリコン熱電対、温度範囲0-1300℃、長寿命。 ...
Henan Sante Furnace Technology Co.,Ltd.
温度: 1,000 °F - 2,000 °F
幅: 12 in
高さ: 12 in
... Mentor®、モデルHFL-2018-2IQは、一般的に小中規模の炉負荷に効率的かつ経済的に対応するために設計・開発された、水平型の前面搭載型コンパクト真空熱処理・ロウ付け炉です。電気抵抗発熱体を用いた高温・高真空・バッチ式炉です。Mentor®は単一の可搬型プラットフォームに搭載され、出荷と操作性が容易です。熱処理、焼入れ、ろう付け、応力除去、焼きなまし、焼き戻し、焼結、均質化、脱ガス、拡散接合、クリープ成形などに対応する設計になっています。 特長とメリット 容易なメンテナンスと最小限のダウンタイムのために設計 ホットゾーン測定12 ...
... 産業用乾燥 予測可能な熱慣性を備えた金属抵抗器を使用することで、高い精度で熱を発生させることができます。 さらに、それらは周囲のガスを汚染しません。例えば、脱水薬、化学薬品、食品などに使用されます。 これらの理由から、現代の産業は抵抗器を使用した発熱に向かうようになっています。 を使用 します。 低電圧（< 50 V）で供給された実装耐性スラブ（膨張金属）のその単純さのために、床式加熱システムは、非均質で均一な表面温度を提供します。 このアプリケーションは、特に床暖房冷たい部屋のために意図されています。 ...
... NKシリーズ Alluminiumろう付け炉 主な特徴: • フラクサント塗布が容易 • 真空ろう付けよりも炉の雰囲気 • シンプルなプラントレイアウト • 低メンテナンスコスト • フラクサントを片から取り除く不要 • 初期投資はワクチンよりも低減ろう付け • 組立コストの削減 • Nocokプロセスでは、スクラップピースを再処理することで簡単にリサイクルできます 汎 用：ラジエーター、 ヒーター、コンデンサー、蒸発器、オイル冷蔵庫などのアルミニウム熱交換器を製造するための連続プラント ...
... AMADA WELD TECHの独立型真空ベークアウトオーブンSA2200は、大気エンクロージャーから独立したベークアウト能力を追加するための完璧なソリューションを提供します。 米国で生産され、最高水準で製造されたこの完全一体型の信頼性の高い真空オーブンは、伝導熱と輻射熱を最も効率的に分配します。 フロントローディング式200°C加熱ウォールベークアウトオーブン、真空ポンプ、奥行き12インチの作業エリアを備えています。 デュアル真空ベークアウトオーブン 独立型 設置面積が小さい アクセスが容易なフロントパネル制御 均一な熱分布 ...
温度: 550 °C - 620 °C
... エレクトロニクス産業用のアルミ箔は、非常に高い品質要求を満たさなければなりません。高容量箔の製造には、最高純度のアルミニウムのみが使用されます。 アルミニウムの純度は、使用電圧に応じて高くなります。低電圧用途ではグレードAI3N8で十分ですが、高電圧ではAI4N（AI 99.99%）が必要です。 フォイル表面に均一なAl2O3層を形成するため、アニール中に極めて高純度のプロセス雰囲気が使用され、これが後工程のトンネルエッチングに有利となる。この材料は、550℃から620℃のアニール温度で処理され、雰囲気露点は-30℃以下でなければならない。 これらの厳しい基準を満たすために、アニールはガス密閉と真空密閉の両方を備えたレトルト炉で行われなければなりません。HICONベルアニーラーはこの用途に最適です。 HICONのベルアニーラは次のような特徴を持っています： 中真空用にデザインされた金属表面 真空またはプロセス雰囲気での柔軟な加熱および冷却勾配 ガス密閉および真空密閉の作業スペース ...
EBNER
温度: 2,800 °C
... アニール、焼結 最も重要な特徴 バルク材料または固体の熱処理 モリブデンまたはタングステン発熱体による抵抗加熱 高品質のモリブデンまたはタングステンシート製の断熱材 円形または正方形/長方形の作業室（温度と真空度に依存） 縦型または横型の作業室デザイン（温度による） フロント、ボトムまたはトップローダーの炉コンセプト 可燃性ガスにも対応する保護ガス運転 可燃性・爆発性ガス使用時の安全運転のための火炎監視付き燃焼停止装置 有毒ガス、爆発性ガス、可燃性ガス使用時の安全運転のための安全パッケージ 可燃性・爆発性ガス使用時のガス警報システム 最終真空度5 ...
Linn High Therm
温度: 0 °C - 2,200 °C
容量: 4.5, 9.5, 180, 4,400, 2,250 l
PVA TePla Group
温度: 1,250, 1,350, 1,500 °C
... BMI 真空炉 B5_T シリーズは、高い冷却速度を必要としない主な高温熱処理用に設計されています（装置には最大 2 bar abs の高圧をかけることが可能）。これらの炉は特に真空アニールやエージング、またロウ付けや焼結の用途に適しているでしょう。 B5_TM 真空炉は MIM (Metal Injection Molding) 真空焼結用 B5_T 真空炉をベースに特別設計されています。このB5_TM真空炉は、1500℃までの高温動作に対応したオーバーサイズポンプユニットに加え、焼結する合金の感度に応じて、100%グラファイトまたは金属断熱材（モリブデンシールドとステンレスシールドの重ね張り）を選択することができるようになります。 この装置は、ろう付け、焼結、特殊合金の脱ガス、MIM、焼きなまし、時効処理、ホウ酸処理、アルカーブ低圧浸炭などの真空処理に最適なオプションが選択できます。 BMICROは小荷重の処理に経済的な選択肢であり、VSE8_Tは大荷重の処理に推奨されます。 追加オプション ポンプユニット ...
B.M.I. Fours Industriels
温度: 0 °C - 500 °C
... SST 5100は、加熱および冷却ランプ速度の正確な自動制御を提供する真空および圧力炉です。 このシステムは、50ミリトル以下の真空レベルから40psigまでの圧力まで、最大500°Cまで加熱し、不活性ガス環境での冷却を可能にします。 プロセスプロファイルを無制限に作成してコントローラに保存できます。 プロセス加熱は、近接結合された平面赤外線発熱体によって作業領域全体にわたって提供されます。 このシステムは、高生産フラックスレスボイドフリーはんだ付け用に設計されています。 ...
PALOMAR TECHNOLOGIES
温度: 0 °C - 1,320 °C
Ipsen International GmbH
温度: 50 °C - 250 °C
容量: 30 l - 215 l
幅: 296, 416, 450, 556 mm
... 特徴 PIDマイクロプロセッサーによる温度制御、LED表示。 ポリッシュ仕上げのステンレス製インナーチャンバー。 真空度は自動制御（BOV-90V/BOV-215V/BOV-90VL/BOV-215VLの場合）。 シリコンゴム製のシールリングで高真空を確保 強化された二重構造のガラスドアにより、操作の安全性が確保されています。 真空度は、デジタル表示のマイクロプロセッサー・コントローラーで制御されます。 作業プログラムは99回の繰り返しが可能（BOV-90VL/BOV-215VLの場合）。 ...
温度: 0 °C - 1,350 °C
... フォサティ社認定の高耐火性素材を使用し、AISIメタリックカーペントリーで保護されています。 ...
温度: 300 °C - 400 °C
... 真空熱分解洗浄炉は、スピナレット、メッシュ、押出スクリュー、ブレーカープレートなどの金属部品からポリマーを除去するための炉です。 電気式熱分解洗浄炉とは？ 真空紡糸口金洗浄炉は、高分子材料のフィルター、ストレーナーを洗浄し、焼成後に再利用させ、生産コストを節約するのに適しています。また、一種の環境保護設備でもあります。真空スピナレット洗浄炉は、ポリマーが一定の温度で溶融し、300℃前後の高温で空気と遮断された条件下で分解し、400℃以上で少しの酸素と一定の真空度で完全に酸化するという特性を応用したものです。この特性を利用し、まず洗浄したものを溶融温度まで加熱し、フィルター表面の高分子ポリマーを剥離させ、廃棄物回収タンクに流下させる。この時、フィルターの表面には高分子と灰分が少し残っているだけで、炉の温度がクラッキング温度（技術的な要求に応じて可能）まで上昇した時、真空ポンプを開き、残りの高分子に少量の空気を導くと、完全に酸化され、二酸化炭素と水を得ることができ、水リング真空ポンプの吸引を通して、炉内で発生した二酸化炭素と水蒸気はスプレー洗浄機で洗浄され、炉外に排出されます。作業中、排気ガス、スモッグ、灰が発生せず、二酸化炭素が少量発生するだけで、排気のために燃焼する必要がなく、水が少量の灰を取り除くだけです。 ...
... エアフロー選択可能/オプション 電子サーモスタット: はい デジタル温度計はい 外部材料：イノックス 内部材料：INOX製 オーバーヒートコントロールあり インジケーターマノメーター1 温度記録計オプション 真空ポンプあり タイマー：オプション 向き水平 パワー: 1100W 温度表示分析: 0.1°C 温度選択分析: 0.1°C 表示精度： 2 温度安定性： 2°C 電源電圧： 230V ...
温度: 10 °C - 200 °C
幅: 635 mm - 780 mm
高さ: 450 mm - 1,580 mm
... 真空乾燥炉は、広く生化学、化学、製薬、ヘルスケア、農業研究、環境保護、粉末乾燥や焙煎のための他の研究アプリケーションで使用されるだけでなく、使用されるガラス容器の消毒と殺菌。特に、熱に弱く、分解しやすく、酸化しやすい複雑な組成の原料の乾燥に適しており、迅速かつ効率的な乾燥が可能です。 様々な複雑な機械部品や他の多孔質サンプルは、真空乾燥法を使用して洗浄した後、残留物質を残さずに完全に乾燥させる。 製品紹介 広く生化学、化学、製薬、医療、農業研究、環境保護などの研究用途に使用され、粉体の乾燥や焙煎だけでなく、ガラス容器の消毒や滅菌に使用されます。特に、熱に弱く、分解しやすく、酸化しやすい複雑な組成の原料の乾燥に適しており、迅速かつ効率的な乾燥が可能です。 技術的な利点 真空環境は、液体の沸点を取り除く必要性を大幅に減少させるので、真空乾燥の熱に敏感な材料は、そのような真空乾燥を使用して、効果的に乾燥時間を短縮することができ、粉末や他の粒状のサンプルのようなサンプルを乾燥することは容易ではありません簡単に適用することができます。 安全性-真空と不活性の条件の下で、非常に高温で酸化物質が爆発するのを完全に避けることができます。 空気の循環に依存する通常の乾燥方法と比較して、粉末試料は空気の流れによって吹き飛ばされにくい。 ...
Guangzhou Kangheng Instrument Co., Ltd.
温度: 35 °C - 200 °C
容量: 47 l
... 真空乾燥炉 "Vaciotem-TV" デジタル温度制御、電子式原子炉圧力表示、タイマー。 35 °Cから200 °Cまでの温度調節が可能 安定性 ±1 °C、100 °Cまで。同相性 ±3 °C、100 °Cまで設定誤差 ±2 °C分解能 1 °C 特集 デジタル電子制御：温度、真空圧、および事前に選択されたプログラム可能な タイマーを使用しています。 温度センサー Pt100 運転サイクルの終了時には自動で空気を吸い込みます。 チャンバーの周りに均等に配置された発熱体 チャンバーはAISI ...
J.P Selecta
... 溶融接合炉は、溶接が困難な高強度金属や難燃性金属を接合するために使用されます。接合は、ホットプレスで融合させた同種・異種の金属に高温・高圧を加えることで、固体金属表面の原子を交錯させ、接合させます。従来のろう付けとは異なり、母材が持つ強度や耐熱性を発揮することができます。また、接合した金属の重量や寸法に影響する充填材も不要です。 近年の拡散接合業界の進歩により、内部熱交換器によるガスクエンチ冷却機能を備えた真空ホットプレスシステムが開発されています。これらの急速冷却クエンチシステムは、ボンドを改善し、生産量を増やし、サイクルタイムを大幅に向上させるとともに、ボンド後の熱処理を最適化することを可能にします。 真空ホットプレス拡散接合では、材料に含まれる主要な合金成分の沸点付近、または沸点直下まで真空度を下げることができます。この専用炉は、圧力と温度のコントロールに優れたプレス機を内蔵しています。拡散接合は、積層造形（LOM）と呼ばれる付加製造プロセスにも利用されている。この方法では、薄い金属板を接合することで、本質的に付加的なプロセスを実現しています。 拡散接合は、耐火物などの高強度合金材料をろう付けなしで接合するのに適したプロセスで、積層接合や単純な接合に使用されます。 ...
Epcon Industrial Systems, LP
温度: 500 °C - 1,450 °C
容量: 4.5 l
幅: 820 mm
... 高温炉 MHTF-1Aは、セラミックファイバーを真空成型した炉で、高性能・高耐久性を備えています。二重扉により外部からの加熱を防ぎ、作業者の安全性を確保します。独自設計のレベリングフットにより、安定した立ち上がり。接地回路とNFBにより、電気の短絡や過電流を防ぎ、ヒューズの交換が不要です。 特長 1,600℃までの高温試験に対応しています。 真空成型セラミックファイバー セラミックブロックの成形による高い断熱性能と、高温への素早い到達が可能です。 LCDプログラムコントローラ(オプション) RS-232C(オプション) アルミプロファイルケース(オプション) ...
詳細をお書きください:
サ－ビス改善のご協力お願いします:
残り