チャンバー炉 VF25

融解誘導真空

25kgs 真空誘導溶解炉 主な技術パラメータ 炉のタイプ: 縦型(サイドドアなし) 到達真空度：6.6×10-1Pa (空炉冷状態) 使用真空度: ≤100Pa 圧力上昇率：≦3Pa/h（バルブを15分間閉じた後に測定、ルツボのない空の炉の状態） 作業雰囲気：真空 主要部品の説明 本装置は、主に真空チャンバー、溶解装置、真空システム、中周波電源で構成されています。 真空溶解室 真空溶解室は、縦型の炉体と炉蓋で構成されています。炉体、炉蓋ともに、中央に冷却水を配した二重のシェル構造になっています。炉カバー、炉内壁、フランジはすべて304ステンレス製です。炉の外壁は高品質の炭素鋼を使用しています。炉の内壁は細かく研磨されており、ダストの除去を容易にしています。炉の内径は800mmです。炉内側には厚さ5mmの304ステンレス鋼、炉外側には厚さ5mmの高品質炭素鋼を使用しています。 炉蓋はリフティングジャッキで持ち上げ、手動で回転させます。炉蓋には観察窓が設けられています。 誘導溶解装置 誘導溶解装置は、誘導子、固定板、ブラケットを備えています。インダクタは高品質の銅部品で作られている。誘導コイルは、内部および外部接続の水で冷却された銅管で巻かれている。融解装置は、しっかりとした構造、便利な操作、および長い耐用年数を備えています。