Materials Research Furnacesの真空炉

温度: 0 °C - 1,750 °C

... を備え、装入とメンテナンスを容易にします。 大重量の装入物を容易に操作できる装入カートも用意されています。 一般仕様 24″ x 24 " x 24″使用可能ホットゾーン (610mm x 610mm x 610mm) 20″高 真空システム より速い冷却のための熱交換器 優れた温度均一性 前後にアクセス可能 大容量 使いやすいHMIコンピューターインターフェース ロードカートおよびその他のオプションあり チャンバーは前面から装填 ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社のボトムローディング式焼結炉は、電子部品の高温焼結用に設計されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、強制冷却、制御酸化から構成されます。この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ (305mm x 559mm)で、大量バッチ処理に適しています。 この炉は2つのチャンバーを備えており、下部チャンバーは装入・取出し、冷却、制御酸化、上部チャンバーは高温焼結を行います。両チャンバーの雰囲気は隔離されており、電動リフトが装入物スタックをボトムチャンバーから加熱チャンバーに移動させます。 ホットゾーンはタンタルまたはタングステンで2100℃まで可能です。 高スループットの10″または16″拡散ポンピングシステムは、製品加熱中に通常見られるロードのアウトガスに対応します。 直感的なカスタマイズされたHMIインターフェースが、最初から最後まで完全に自動化されたサイクルを実行します。 一般仕様 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社の4ステーション式インデックス焼結炉は、電子部品の高温焼結に適した当社の最高スループットモデルです。4つの装入物が同時に処理され、半連続プロセスの焼結プロセスが形成されます。 炉は直径12インチ x 高さ22インチ (305 mm x 559 mm) の使用可能ゾーンを持ち、この設計は大量のバッチ処理に最適です。 この炉には5つのチャンバーがあり、搬送機構を含むボトムインデキシングチャンバー、搬出入チャンバー、加熱チャンバー、冷却チャンバー、酸化制御チャンバーがあります。通常運転中、すべてのチャンバーは互いに隔離されています。 油圧リフトとモーター駆動のインデックス機構が装入物スタックをステーションから次のステーションへ移動させます。プロセスパラメーターにもよりますが、この炉は45分ごとに焼結装入物を生産します。 ホットゾーンは最高2100℃まで可能で、タンタルまたはタングステンで製造されます。 高スループットの10″または16″拡散ポンプシステムが装入物のアウトガスを処理します。HMIコンピューターインターフェイスは、完全に自動化されたサイクルを最初から最後まで実行し、生産ネットワークと統合して製品追跡とレシピ選択を提供します。 一般仕様 4つの負荷を同時に処理する5チャンバー設計 ローディング、加熱、冷却、酸化の各チャンバーを分離 ホットゾーン ...

温度: 0 °C - 2,200 °C

... アラームの表示とロギング、温度制御のための無制限のレシピプロファイル、セキュリティ、構成設定などが可能です。PCは産業用フラットパネルPCを制御コンソールに搭載し、過酷な環境にも耐えるよう設計されています。 一般仕様 水素、不活性ガスまたは 真空雰囲気 優れた温度均一性 メッシュまたはロッド発熱体 ラフ、拡散、ターボまたはクライオポンプシステム 急速冷却用熱交換器（オプション ユーザーフレンドリーなHMIコンピューターインターフェース チャンバーは前面 ...

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 使用可能ゾーンと+/- 10℃の温度勾配を持つホットゾーンがあります。加熱ゾーンは、同一のメッシュまたはロッド加熱パネルで構成され、4面加熱が可能です。エレメントは均一性に優れ、長寿命です。炉室は二重壁のステンレス鋼を溶接して製作され、クリーンな仕上がりと 真空の完全性のために研磨されています。 チャンバーには補助装置やセンサー用のポートが装備されています。ホットゾーンシールドはチャンバーフレームに取り付けられ、ヒートサイクル中のゾーンの熱成長を可能にします。炉の前面扉はヒンジ式で水冷式、装入領域へのフルアクセス ...

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 追加機能が提供されます。この炉は研究開発にも生産用の小バッチ炉にも適しています。 仕様 一般仕様 4″ x 6 " x 8″ (101 mm x 152 mm x 203 mm) の使用可能ホットゾーン 優れた温度均一性 水素、不活性ガスまたは 真空雰囲気 ラフ 真空システム、オプションで拡散またはターボポンプシステム 長寿命のタングステンメッシュ発熱体 露点制御オプション付き水素湿潤システム 詳細 チャンバーとホットゾーン チャンバーは前面から装填され、幅6″×高さ8″×奥行き10″のホットゾーンがあり ...

温度: 0 °C - 2,500 °C

... 湿式水素システム コンパクトな設置面積のトップローディング 詳細 チャンバーとホットゾーン トップローディングホットゾーンチャンバーは円筒形で、二重壁のステンレス鋼で製造されています。チャンバー全体が溶接され、 真空の完全性と人間工学に基づいた外観のために研磨されています。 センサー、 真空、ガス、ホットゾーン電源、覗き窓用に多数のチャンバーポートが装備されています。標準的なホットゾーンはタングステンとモリブデン製で（異なる材質のものもあります）、電力損失を低減するために7層のシールドが施されています ...

温度: 1,650, 1,350 °C

... に付属させることも、既存の試験システムに追加することも可能です。 チャンバーには、様々なポートやフィードスルーを介して、試験グリップ、伸び計、その他の試験装置を収容することができます。水冷式チャンバーは 真空定格であり、試料雰囲気を外部環境から隔離します。これにより、空気中、不活性ガス中、または 真空中で、試験サンプルを室温から最高1650 °C（3002°F）まで加熱することができます。また、最大1350°C（2462°F）までの水素運転も可能です。 チャンバーは様々な物理的試験フレームに取り付け ...

温度: 0 °C - 3,000 °C

... ターボポンプシステム、極低温システムなどの高 真空システムは、さらにチャンバー圧力を10-10 Torr (mbar)まで下げます。 真空システムの選択は、必要な 真空レベルやガス負荷などのプロセスパラメータに基づいています。炉のお見積もりをご依頼の際には、ご希望の 真空レベルとポンプシステムのタイプをご指定ください。 真空チャンバーは二重壁、水冷式で、304Lグレードのステンレス鋼から製造され、電気研磨仕上げにより、クリーンで耐久性があり、優れた 真空度を実現します。 真空炉は金属、合金、セラミック、グラファイト ...

温度: 0 °C - 2,100 °C

... 当社の2ステーション焼結炉は当社のボトムローディング焼結炉をベースにしていますが、同時に2つの装入物を処理することが可能で、同じ設置面積で実質的に処理能力が2倍になります。当社の焼結炉は、高温での電子部品の焼結や熱処理用としてエレクトロニクス産業で広く利用されています。サイクルは雰囲気準備、加熱、急冷、制御酸化から構成されます。 2ステーション炉は2つの装入物を同時に処理し、1つの装入物を高温室で加熱する一方、2つ目の装入物を下室で冷却します。 この炉の使用可能ゾーンは直径12インチ x 高さ22インチ ...