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Características técnicas
- Manuseio automático de wafers e alinhamento de máscara
- Suporte a tamanhos de wafer combinados: 2–4 polegadas e 4–6
SEIWAOPTICAL
... para exposição de alta definição e um mecanismo de paralelismo de alta precisão entre fotomáscara e wafer. O sistema
totalmente automático suporta três modos de controlo de gap: Vacuum contact, Soft Contact e Proximity Gap.
Aplicações
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SEIWAOPTICAL
... Principais características
- Alinhamento selecionável: opções de alinhamento manual ou automático.
- Controlo de folga selecionável: ajuste automático ou manual do gap.
- Carregamento/descarregamento
SEIWAOPTICAL
... fotomáscara e substrato. Operação totalmente automática com modos de exposição: contato a vácuo, contato suave e gap de proximidade. Configurações vertical e horizontal para diferentes tamanhos de máscara: vertical para ...
SEIWAOPTICAL
... pode ser integrada perfeitamente com ferramentas de cluster. Os novos alinhadores de máscara de produção da OAI são o pacote total. EXCLUSIVAMENTE OPTIMIZADOS 200 WPH em Modo 1ª Máscara Óptica de feixe ...
... última geração para alinhamento de máscaras em uma área de área de cobertura minimizada de até 150 mm de wafer. Conhecido por sua versatilidade e confiabilidade, o EVG620 NT oferece tecnologia de alinhamento de máscara ...
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