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... posterior ±1 μm ou menos
Destaques operacionais
- Alinhamento paralelo de alta precisão entre máscara e wafer para fidelidade de padrão repetível
- Controlo de gap flexível para processos de contacto
SEIWAOPTICAL
... Visão geral
- Sistema de exposição de wafers (mask aligner) de bancada, concebido para P&D e produção em pequenos lotes.
- Suporta três modos de controlo de folga: Hard contact, Soft contact e Proximity gap.
Aplicações
- Indicado
SEIWAOPTICAL
... alinhamento: ≤ 0,5 μm
Características técnicas
- Manuseio automático de wafers e alinhamento de máscara
- Suporte a tamanhos de wafer combinados: 2–4 polegadas e 4–6 polegadas
- Projeto voltado
SEIWAOPTICAL
... a vácuo, contato suave e gap de proximidade. Configurações vertical e horizontal para diferentes tamanhos de
máscara: vertical para
máscaras grandes (G5 e superiores), horizontal para G4.5 ou menores.
Uso
Adequado ...
SEIWAOPTICAL
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