Filtro de partículas Wafergard® III NF

de membranaem linhapara altas temperaturas

“ Micro Em-linha filtros de Wafergard® III N-F do gás Filtragem ínfima superior para a filtragem ultrapure do sistema de gás Mais limpo, a maioria de filtros inteiramente metálicos eficientes disponíveis A membrana patenteada do filtro do níquel oferece a resistência de corrosão superior e a compatibilidade excelente com gás inertes e reativos. (Não recomendou para o uso com CO, O3 e gás de baixo nível do entorpecente do hidruro.) Ideal para aplicações da alta temperatura e da dinâmico-pressão Materiais: Elemento de filtro: Filtro de membrana patenteado, aglomerado do níquel. Alojamento: Alojamento de aço inoxidável de Electropolished F20 Interior de superfície do revestimento: Ra do μin =5 Avaliação do escape do hélio: 2' 10-10 atm-centímetros cúbicos qualificado \ /sec. 1' 10-9 atm-centímetros cúbicos testado \ /sec. Limpeza a jusante: Particles1: Menos de 0,03 partículas \ /liter (μm =0.003 Retenção da partícula: Maior de 99,9999999% remoção (9 LRV) de todas as partículas (proveu no máximo o tamanho de partícula de penetração) Condições operacionais: Pressão de entrada máxima: barra 207 (3000 libras por polegada quadrada) @100°C Enviam máxima \ /reverse pressão diferencial: barra 35 (500 PSID) Temperatura de funcionamento máximo: Gás inertes 400°C 500 libras por polegada quadrada) nos gás corrosivos e reativos 50°C da barra 35 (em 70 1000 libras por polegada quadrada) da barra (\ /html”