Filtro de gás Wafergard® II SF

de partículasde membranade alta eficiência

“ Mini XL Em-linha filtros de Wafergard® II SF do gás Filtragem ínfima superior para a filtragem ultrapure do sistema de gás Membrana de aço inoxidável patenteada para fornecer a filtragem de grande eficacia Ideal para aplicações da alta temperatura e da dinâmico-pressão Compatibilidade excelente com a maioria de gás ultrapure do processo do semicondutor Para o uso com gás inertes e reativos Uso típico até 60 SLPM Materiais: Elemento de filtro: Filtro de membrana de aço inoxidável patenteado Alojamento: Electropolished 316L de aço inoxidável Interior de superfície do revestimento: Ra do μin =5 Avaliação do escape do hélio: 2' 10-10 atm-centímetros cúbicos qualificado \ /sec. 1' 10-9 atm-centímetros cúbicos testado \ /sec. Limpeza a jusante: Partículas: Menos de 0,03 partículas \ /liter (1 partícula \ /ft3) maior de 0,01 μm Voláteis: μm =0.003 Condições operacionais: Pressão de entrada máxima: barra 165 (2357 libras por polegada quadrada) em 20°C Enviam máxima \ /reverse pressão diferencial: barra 140 (PSID 2000) Temperatura de funcionamento máximo: 460°C em 35 500 libras por polegada quadrada) da barra (\ /html”