Resina para semicondutores i-Line

fotossensível

Extensa série de fotorresistências sensíveis a UV médio para aplicações críticas e não críticas, abrangendo resolução sub-0,30µm a >1,0µm em substratos variados numa vasta gama de espessuras de resistência. Linha de produtos Resistências i-Line avançadas para substratos não reflectores Famílias de resistências concebidas para a modelação crítica exigente de CD (350 nm CD) em substratos reflectores: Série OiR 674 Série GiR 1102 Resinas i-Line multiusos de alta resolução Séries de resistências que oferecem as opções de velocidade fotográfica mais rápidas para um rendimento elevado, alta resolução (>500 nm CD) e modelação robusta: Série GiR 2700 Série OiR 305 Série OiR 906 Série OiR 907 Resistências Cross-over g- e i-Line multiusos Séries de resistências que oferecem uma modelação robusta para linhas g, i e banda larga (>800 nm CD): Série HiPR 6500 Série HPR 510 Resinas tingidas para substratos altamente reflectores Séries de resistências que oferecem densidades ópticas elevadas e sem branqueamento para controlo de CD e entalhe em substratos altamente reflectores: OiR 906HD OiR 305HC HiPR 6500GH HiPR 6500HC resinas i-Line para aplicações mais espessas Série de resistências para necessidades de modelação de películas mais espessas, de 3 a 13 µm de espessura: FHi-560EP GiR 3114 OiR 305 OiR 908