Fonte de feixe de elétrons BS-60070DEBS

Fontes de feixe de electrões / fontes de alimentação para deposição por feixe de electrões utilizadas para criar vários tipos de películas, incluindo películas ópticas e revestimentos de eléctrodos. Características Características do método de deposição por feixe de electrões - A eficiência térmica é bastante boa devido ao aquecimento por irradiação direta do feixe de electrões sobre o material de deposição. É possível vaporizar uma variedade de materiais, incluindo metais de elevado ponto de fusão, óxidos, compostos e materiais de sublimação. - Uma vez que o material de deposição é diretamente aquecido no cadinho arrefecido a água(*), não há reação da embarcação ou do cadinho, como acontece com os métodos de aquecimento por resistência ou indutivo. * Nalguns casos, é utilizado um revestimento do cadinho - Uma vez que está disponível um controlo de saída de alta velocidade, é possível controlar com precisão a espessura da película. - Em comparação com os métodos de pulverização catódica e CVD, a velocidade de criação da película é uma caraterística importante. Isto também é útil para criar revestimentos espessos de 1µm ou mais. Características das fontes de feixe de electrões JEOL [Óxidos] Apresenta um ângulo de incidência do feixe perpendicular ao material de deposição e um ponto de feixe de alta densidade de energia que é quase um círculo perfeito. Uma vez que a função de varrimento a alta velocidade é padrão, é adequada para a deposição em materiais de sublimação e óxidos com baixa condutividade térmica e elevado ponto de fusão. Pode obter excelentes restos de fusão, permitindo distribuições uniformes e reprodutíveis da espessura da película numa área ampla.