Fonte de plasma para tratamento de superfícies BS-80011BPG

A fonte de plasma é incorporada numa câmara de vácuo e gera plasma de alta densidade. A fonte de plasma pode ser utilizada como deposição assistida por plasma (revestimento iónico) e é possível melhorar as propriedades das películas para películas finas ópticas, películas de proteção e películas funcionais. Também pode ser utilizada para tratamento de plasma, como limpeza e modificação de superfícies. Características O plasma de baixa tensão e de grande corrente permite ionizar e excitar moléculas de gás e partículas evaporadas. É possível a deposição reactiva, especialmente adequada para a promoção da oxidação de uma película. O plasma de alta densidade pode ser gerado num espaço de massa, sendo assim possível a deposição a alta velocidade numa grande área. É possível a adaptação a uma câmara de vácuo existente. Efeitos Melhoria da densidade da película, índice de refração Produção de películas ambientalmente estáveis Baixa deslocação do comprimento de onda Baixa absorção ótica (promoção da oxidação da película) Melhoria da aderência da película Melhoria da rugosidade da superfície Controlo da tensão da película Características Saída máxima de plasma ： 6kW (160V, 38A) Pressão de operação: 1×10-2 a 1×10-1Pa (atmosfera de Ar, O2, N2) Gás de descarga (Ar): 8 a 20mL/min Água de arrefecimento: 7 a 10L/min Método de feixe: selecionável a partir de feixe de reflexão e feixe de irradiação