Sistema de litografia por feixe de elétrons JBX-8100FS
a laser

sistema de litografia por feixe de elétrons
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Características

Tipo
a laser, por feixe de elétrons

Descrição

O sistema de litografia por feixe de electrões de tipo pontual JBX-8100FS alcançou um elevado rendimento, ocupa pouco espaço e poupa energia eléctrica. Características Área de implantação reduzida A área necessária para o sistema padrão é de 4,9 m (L) x 3,7 m (P) x 2,6 m (A), muito mais pequena do que os sistemas convencionais. Baixo consumo de energia A potência necessária para o funcionamento normal é de aproximadamente 3 kVA, reduzida a 1/3 dos sistemas convencionais. Elevado rendimento O sistema tem dois modos de exposição, de alta resolução e de alto rendimento, suportando diferentes tipos de modelação, desde o processamento ultrafino até à produção de pequena e média dimensão. Minimizou o tempo de inactividade durante a exposição e aumentou a velocidade máxima de varrimento em 1,25 a 2,5 vezes para 125 MHz (o nível mais elevado do mundo) para escrita a alta velocidade. Versão A JBX-8100FS está disponível em 2 versões: G1 (modelo de entrada) e G2 (modelo de opção completa). Os acessórios opcionais podem ser adicionados ao modelo G1 conforme necessário. Novas funções Está disponível um microscópio óptico opcional para permitir o exame de padrões na amostra sem expor a resistência à luz. Uma torre de sinalização é fornecida como padrão para monitorização visual do funcionamento do sistema. Resolução de posicionamento laser As posições da plataforma são medidas e controladas em passos de 0,6 nm como padrão, e em passos de 0,15 nm com uma actualização opcional. Controlo do sistema O versátil sistema operativo Linux®, combinado com uma nova interface gráfica de utilizador, proporciona uma operação fácil. O programa de preparação de dados suporta tanto Linux® como Windows®.

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