Sistema de litografia por feixe de elétrons JBX-3050MV
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Características
- Tipo
- por feixe de elétrons
Descrição
O JBX-3050MV é um sistema de litografia por feixe de electrões de forma variável para a produção de máscaras de nós de 45 nm a 32 nm. A sua tecnologia de ponta permite obter alta velocidade, alta precisão e alta fiabilidade. Este sistema EB utiliza um feixe de electrões de 50 kV de forma variável e uma fase de passo e repetição.
Características
O JBX-3050MV é um sistema de litografia por feixe de electrões para o fabrico de máscaras/artigos que cumpre a regra de design de 45 a 32 nm. Este sistema permite a escrita de padrões com alta velocidade, alta precisão e alta fiabilidade, conseguida através de tecnologia de ponta.
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