Os reflectores de alta banda ultralarga são ideais para aplicações como a contagem de fotões, a imagiologia hiperespectral ou a espectroscopia Raman.
-RS, RP >99% @ 350-700 nm, 610-1130 nm, ou 350-1100 nm
-Planicidade do substrato e qualidade da superfície λ/10, 20-10
-Disponível em diâmetro 25,4 mm
-Revestimento totalmente dieléctrico de elevado desempenho
-Concebido para funcionar com um ângulo de incidência de 0-50 graus
Características
Substratos de sílica fundida UV
A sílica fundida é um dióxido de silício sintético amorfo de pureza extremamente elevada. Este vidro de sílica não cristalino e incolor combina um baixo teor de inclusões com uma elevada homogeneidade do índice de refracção, um coeficiente de expansão térmica muito baixo e uma excelente transmitância no regime de comprimento de onda do UV ao NIR. Como resultado, estes espelhos terão um melhor desempenho com flutuações de temperatura e são ideais para aplicações laser de alta energia devido ao seu elevado limiar de danos energéticos. Para mais informações, consulte a nossa nota técnica sobre materiais ópticos.
Ampla gama de comprimentos de onda com elevada reflectividade absoluta
Utilizando a tecnologia superior de revestimento por pulverização catódica de feixe iónico, é possível obter uma reflectividade absoluta muito elevada numa vasta gama de comprimentos de onda. É vantajoso em situações de pouca luz, quando é fundamental recolher o máximo de luz possível. Dependendo do tipo de revestimento, terá tanto como RS, RP >99% para 350-1100 nm num ângulo de incidência de 0-50°.
Revestimento dieléctrico de banda larga UV-VIS
Os espelhos com revestimento BB.1 cobrem o regime de comprimento de onda do UV ao visível de 350 a 700 nm
Revestimento dieléctrico de banda larga VIS-NIR
Os espelhos revestidos BB.2 cobrem o regime de comprimento de onda do visível ao infravermelho próximo, de 610 a 1130 nm
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