Máquina de deposição PVD RT-CsI950

por evaporação térmicade filme metalizadoa vácuo

Sistema de Deposição de Cintilador de Raio-X (CsI), Máquina de Metalização de Alto Vácuo CsI Propriedades: Ultra-Alta Resolução Espacial de Imagem; Resposta rápida para imagens mais nítidas; Áreas de imagem de ponta a ponta; Camadas de absorção óptica ou camadas refletoras; Baixa dose de raios X do paciente; Aplicação: para verificação e inspeção de segurança, ensino de física de alta energia, detecção de radiação nuclear e imagens médicas: exame de tórax, mamografia, dental inter oral e panorâmica. Substratos aplicados: vidro TFT, placa de fibra óptica, placa de carbono amorfo, placa de alumínio 1. Eficiência: O modelo RT-CsI950 é com estrutura de 2 racks rotativos. Capacidade dupla para max. tamanho do substrato: 500x400mm. 2. Repetibilidade e Reprodutibilidade: Através do sistema de controle de parâmetros de alta precisão, Software e programa de controle de processo automatizado, Operação amigável ao usuário. 3. Confiabilidade: 24/7 dias de operação ininterrupta; Inficon Film Thickness Controller para monitorar a espessura do filme inline. Precisão do controle de temperatura: ± 1 ℃, configuração de vários estágios, registro e controle automático de dados de temperatura A cremalheira rotativa é projetada com Servo-Motor para alta precisão e estabilidade. 4. Segurança: Bomba de alto vácuo: Bomba Molecular de Suspensão Magnética, com dispositivo de sopro de gás nitrogênio para evitar que materiais perigosos sejam expostos no ar; Todos os eletrodos estão equipados com mangas de proteção de segurança.