·Capacidade de produção: 600 unidades/lote, 14 400 unidades/h (wafer de 210 mm); 720 unidades/lote, 17 280 unidades/h (wafer de 182 mm);
·Compatível com o polimento por gravação da face posterior e com o processo de texturização da face posterior de monocristal;
·Adequado para vários aditivos;
·Espessura da pastilha até 120 μm;
·Com área de limpeza a seco e sistema de autolimpeza;
·Troca rápida do banho em linha;
·Compatível com MES e sistema RFID; teste de peso em linha opcional.
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