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Linha de revestimento

Linha de revestimento - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
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Descrição

Princípio de revestimento ·Pulverização por magnetrão (PVD). Características ·Funcionamento com cátodos múltiplos para a camada de semente e TCO em tandem com índices de refração múltiplos. Tamanho de wafer compatível ·M10, M12/G12, célula inteira / meia célula.

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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.