Estufa de epitaxia em fase líquida ESY–10 TTT

tubularverticalem grafite

Equipamento LPE para Uso Flexível As características-chave do Conceito SOF Optoelectronics ESY-10 são uma alta capacidade combinada com a flexibilidade para vários tipos de tecnologias de produção de LPE. Uma Capacidade de 50 Wafers para um Processo de Cinco Fitas e 200 Wafers para um Processo de Uma Fita demonstra o elevado Potencial deste Tipo de Equipamento. Em adição ao equipamento padrão ESY-10 para uso industrial, podem ser realizadas soluções concebidas pelo cliente com muitas opções. O ESY-10 pode ser especialmente adaptado aos Requisitos dos Institutos de Investigação e Universidades. O ESY-10 pode ser concebido como um sistema único ou duplo (duplo) para reduzir o tamanho da pegada na sala limpa. Tecnologias de produção disponíveis Infravermelho padrão Infravermelhos de potência Power IR (UF baixo) Janela de Energia IV Infravermelhos de potência para IrDA 870 nm Infravermelhos de potência para IrDA 850 nm GaAs de baixa densidade Destaques técnicos Sistema simples ou duplo Tubo Vertical de Quartzo LPE 3 Zonas de Aquecimento Zona Plana de Temperatura Constante: 250 mm Temperaturas até 1,050°C Precisão de regulação de temperatura: ± 0.5 °C Min. Necessidade de espaço: 1,2 x 1,2 m² Elevada Homogeneidade de Camadas por Crescimento de Camadas Horizontais Computador totalmente automático.. Processamento controlado Registo de dados de todos os Parâmetros de Processo Adequado para Processos Epitaxiais de Múltiplas Camadas Adequado para Diâmetro de Bolacha até 4″ Adaptação Flexível da Capacidade de Wafer-Capacidade Mínimo de 3 Wafers para o Desenvolvimento Máximo de 200 Wafers para produção Em princípio, o Sistema de Grafite ESY-10 consiste em alternar Placas de Grafite fixas e móveis com Vazios que seguram os Substratos. A capacidade do sistema é determinada pela altura da pilha das placas de grafite.