Gerador de plasma PECVD TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1)
PVD

Gerador de plasma PECVD - TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1)  - TRUMPF Power electronics - PVD
Gerador de plasma PECVD - TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1)  - TRUMPF Power electronics - PVD
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Características

Velocidade de secagem
PECVD, PVD

Descrição

Os fornecimentos de energia de processo do TruPlasma Bipolar Série 4000 (G2.1) foram desenvolvidos especialmente para o revestimento com base em plasma por meio dos processos de pulverização catódica reativa, PVD e PECVD e fornecem resultados excelentes com os sinais de saída de forma flexível e uma gestão de arco refinada para a fabricação de células solares e semicondutores, colocação de camadas decorativas e resistentes ao desgaste, bem como o revestimento do vidro arquitetônico. Energia de arco extremamente baixa Gestão de arco totalmente digital para a maior qualidade de camada e produtividade. Formas de onda ajustáveis Adaptação simples aos diversos processos por meio da variação do sinal de saída. Um gerador, muitas aplicações CC, CC pulsada e bipolar: economia de custos graças às diversas opções de ajuste. Refrigeração de água integrada Nenhum componente externo necessário, por isso a pouca necessidade de espaço.

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