Máquina de deposição MOCVD TurboDisc K475i As/P
de camadas finas

máquina de deposição MOCVD
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Características

Método
MOCVD
Tipo de deposição
de camadas finas

Descrição

O sistema MOCVD As/P de maior produtividade da indústria com os melhores rendimentos da categoria O novo Sistema MOCVD TurboDisc K475i As/P da Veeco é o melhor reator da indústria para a produção de LEDs vermelhos, laranja, amarelos (R/O/Y), bem como células solares multi-junção III-V, diodos laser e transistores. O sistema K475i apresenta um novo projeto de reator que incorpora a tecnologia Uniform FlowFlange™ da Veeco, produzindo filmes com alta uniformidade e repetibilidade melhorada dentro da pastilha e wafer-a-wafer com a menor geração de partículas da indústria. O design simples da tecnologia Uniform FlowFlange oferece facilidade de ajuste para otimização rápida do processo e rápido tempo de recuperação da ferramenta após a manutenção para a mais alta produtividade em aplicações como iluminação, solar, diodos laser, transistores pseudomórficos de alta mobilidade eletrônica (pHEMTs) e transistores bipolares de heterojunção (HBTs). O novo design da tecnologia Uniform FlowFlange permite a melhor uniformidade e repetibilidade de processo da categoria, capaz de proporcionar maiores rendimentos O projeto robusto do reator proporciona facilidade de uso e recuperação mais rápida após a manutenção para máximo tempo de atividade A maior produtividade da indústria devido à automação total A plataforma comprovada de produção oferece o menor custo de propriedade

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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.