Máquina de deposição MOCVD TurboDisc EPIK 868
por pulverização catódicade camadas finascom cátodos rotativos

máquina de deposição MOCVD
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Características

Método
MOCVD
Tecnologia
por pulverização catódica
Tipo de deposição
de camadas finas
Outras características
com cátodos rotativos

Descrição

Desempenho de ponta com a máxima eficiência de capital e poupança de pegada O EPIK® 868 da Veeco é o sistema MOCVD de maior desempenho da indústria de LEDs que permite uma uniformidade e repetibilidade superiores com baixa defectividade. Disponível em configurações de quatro factores, a EPIK 868 apresenta tecnologias inovadoras, incluindo as tecnologias proprietárias IsoFlange™ e TruHeat™ que proporcionam fluxo laminar e perfil de temperatura uniforme em todo o portador de bolachas. Estas inovações tecnológicas conduzem a rendimentos mais elevados necessários para mini e micro LEDs. Inerente à EPIK 868 está a tecnologia TurboDisc® que permite a mais alta disponibilidade e tempo de funcionamento do sistema. Concebida para produção em massa, a EPIK 868, portador de alta capacidade, acomoda múltiplos tamanhos de wafer de 4" ou 6" para o mais baixo custo de propriedade. Os clientes podem facilmente transferir processos dos sistemas TurboDisc existentes para a nova plataforma EPIK 868 MOCVD para a produção de arranque rápido de mini e micro LEDs de alta qualidade. Excelente uniformidade com baixa defectividade Arquitectura de cluster compacta Arquitectura de alto rendimento para máxima produção

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