• 微小構造で0.1 µm以下の薄膜の膜厚測定や素材分析に適したパワフルなプレミアムモデル
• μ-XRFで微小スポットをさらに高性能にするタングステン陽極のマイクロフォーカスチューブUltra。モリブデンアノードはオプションです
• 4種類の切替式一次フィルター
• 20 mm² または 50 mm² の非常にパワフルなシリコンドリフト検出器により、薄膜の高精度測定が可能
• 自社製ポリキャピラリーレンズにより、最小測定スポット約10 μm、短時間測定、高い励起強度を実現
• デジタルパルスプロセッサDPP+による高カウントレート、測定時間の短縮、測定結果の再現性向上
• Al(13)からU(92)までの元素分析、ヘリウムパージ(オプション)、最大24元素の同時測定が可能
• 高精度プログラム可能XYステージ、位置決め精度<5 µm、自動画像認証機能により、優れた繰り返し精度
代表的な応用分野
• プリント基板、コンタクト、リードフレームなどの極小平面部品・構造物の測定
• 電子・半導体業界における機能膜の測定
• 非常に薄いコーティングの分析(例:≤0.1 µmの金/パラジウムのコーティング
• 複雑な多層膜システムの測定
• 自動測定(品質管理)
• 軽元素の測定、金やパラジウム下のリン濃度分析(ENIG/ENEPIG)