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走査型電子顕微鏡 SU9600
薄膜測定用研究用素材研究用

走査型電子顕微鏡 - SU9600 - Hitachi High-Tech Europe GmbH/日立 - 薄膜測定用 / 研究用 / 素材研究用
走査型電子顕微鏡 - SU9600 - Hitachi High-Tech Europe GmbH/日立 - 薄膜測定用 / 研究用 / 素材研究用
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特徴

タイプ
走査型電子
応用
研究用, 薄膜測定用, 素材研究用, 素材分析用, 半導体用
観察法
BF-STEM, DF-STEM, 原子番号コントラスト
電子源
冷陰極電界放出
レンズ設計
浸漬
検出器の特徴
シリコンドリフト検出器付き, エネルギー分散型X線分析装置
その他の特徴
高解像度, 相関, 傾斜観測, 超高解像度
分解能

0.2 nm, 0.34 nm, 1 nm

詳細

概要
SU9600 (T)SEM は、超高分解能SEMと解析用STEMをTEM互換の試料ステージと組み合わせたモジュラー式ハイブリッド走査型電子顕微鏡です。単一の高安定プラットフォーム上で表面情報と透過電子情報の相関解析を可能にし、UHR-SEM、STEM、4D-STEM*、EELS*、nano-EDS* をサポートして高速で高分解能な多モード材料解析を実現します。

主な特徴
  • UHR-SEM と解析用 STEM を統合した安定プラットフォーム
  • 10 V〜30 kV の幅での超高分解能イメージングによる表面・構造解析
  • コールドフィールドエミッションガン、フルイマージョン対物レンズ、TEM試料ステージ(30 kV で 0.34 nm 保証、約 0.2 nm 到達可能)

機能と利点
  • エネルギー・角度フィルタ付きの反射電子および透過電子の包括的検出
  • SE/BSE の表面コントラストと BF/ADF/STEM 画像およびスペクトルデータ(EELS/EDS)の相関
  • 大開口のウィンドウレスEDS によるサブnm の元素解析
  • EELS と 4D-STEM による高度な材料物性解析への対応

技術的詳細
  • NEG を用いた次世代コールドフィールドエミッションにより高輝度・低色収差を実現(EELS オプション)
  • フルイマージョン対物レンズと TEM ライクなステージの組合せで最適な分解能と機械的安定性を確保
  • 0.5〜30 kV の高分解能イメージング(30 kV で 0.34 nm 保証、約 0.2 nm 到達可能)
  • TEM ステージとダブルチルトホルダーにより断面の迅速な配向やゾーン軸整合が可能(オプション)
  • クライオホルダーや MEMS ホルダーの対応(オプション)

解析機能
  • 大開口ウィンドウレス検出器を用いたサブnm EDS による高速ナノスケール元素マッピング
  • 高速直接電子検出を用いた 4D-STEM により DPC、ptychography、ひずみ・位相マッピングが可能。仮想絞りで BF/DF/選択回折像を生成
  • 低 kV での EELS:リアルタイム元素イメージング、コアロス・プラズモン損失分光。コールドFEG により約 0.35 eV のエネルギー分解能を実現

用途
  • ナノ材料:元素分布マッピング、ナノワイヤの組成解析、格子イメージング
  • 薄膜:表面形態および結晶粒構造の解析
  • 元素解析:ナノスケールの組成およびマッピング(例:Ag/Cu 系)
  • 半導体:原子レベルの格子観察と回折解析

仕様
SE 画像分解能:0.4 nm @ 30 kV;1.0 nm @ 1 kV;0.6 nm @ landing 1 kV(オプションの減速ホルダーとトップ検出器装着時)
STEM 画像分解能:0.34 nm @ 30 kV(格子像、オプション)
加速電圧:0.5〜30 kV
ランディング電圧:0.01〜20 kV
電気的画像シフト:最大 ±5 mm(試料高さ = 0.0 mm)
ステージ移動範囲:X: ±4.0 mm、Y: ±2.0 mm、Z: ±0.3 mm、T: ±40°
試料寸法 - 平坦ステージ:5.0 mm × 9.5 mm × 3.5 mm(H)最大
試料寸法 - 断面ステージ:2.0 mm × 6.5 mm × 5.0 mm(H)最大

注記
* 表示のあるものはオプションです。4D-STEM、EELS および特定のホルダーなどの機能は構成によりオプションとなる場合があります。

カタログ

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。