スラリー濃度管理に最適
スラリーの希釈度を一定に保つことが有効です。導電率の値を適切に保つことは、ウェーハポリッシングプロセスにおけるプロセスの安定に寄与します。CMP Slurryのような粘度の高いサンプル液でも、電極にサンプル液が付着しにくいセンサー構造を採用しているため、問題なく測定することができます。また、センサーには耐薬品性に優れた接液材を使用しているため、半導体プロセスで要求されるクリーン度にも対応しています。このほか、半導体プロセス開発段階での導入や、特殊薬品の導電率管理などにも利用できます。
高精度/高安定性
測定範囲 : 0~2,000μS/cm , 0~10,000μS/cm
繰り返し精度:±0.5%F/S、±1.0%F/S
金属コンタミネーションフリー
電極材料に特殊カーボンを使用しているため、金属コンタミ溶出の心配がありません。
濃度換算機能搭載
薬品の濃度と導電率の関係や温度特性を入力することで、2種類の濃度換算が可能です。
特に低濃度の薬液の希釈制御に適しています。
省スペース
当社従来の導電率センサーからのダウンサイジングにより、設置レイアウトの自由度が向上します。
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