レーザー光電センサ E3NC series

直反射再帰反射長方形

ファイバーセンサーや光電センサーでは対応できないアプリケーションに最適 透明なワークも安定して検出可能 高周波変調 従来の出射レーザービームは単一波長。高周波変調では、複数の波長を含むようにレーザ光を制御します。 長距離・可変スポットでワークを安定検出 ワークサイズや検出面の状態に合わせてスポットサイズを調整することで、より安定した検出が可能です。クラウンロックの採用により、スポットアジャスターをロックするための工具が不要。アジャスターを押し込むだけでロックされ、設定値の変化を防ぎます。 ワークの色、材質、表面状態に関係なく、光沢のある金属や鋳物でも安定した検出が可能。 CMOSのシャッター時間をワークに合わせます。さらに、受光する分散光量を最適化するために発光パワーを調整します。 三角測量の場合、光を受ける位置検出部の検出位置を測定することでワークを測定する。そのため、入射レベルの変化による影響は限定的である。