光起電性貯蔵マシン RT-R2R-SP

マグネトロン スパッタリング式イオン ビーム補佐疎水性薄膜

私達は真空の放出させる網のコーターを転がすためにあなたの多層沈殿条件を満たすために私達のMultiWebシリーズが転がることを提案するために喜ぶ。 低Eフィルム網のコーターの塗布:電子ペーパー、適用範囲が広い回路の光起電の、医学のストリップ、RFID （無線周波数の同一証明）および低Eフィルム。 沈殿フィルム 1.基質材料:ペット、ペン、PES、PIのPC、PA、…フィルム 2.基質の厚さ:15~300μm 3.沈殿方法:SiO2 （誘電体）のために反応AC;ITOのための脈打ったDC （金属及びコンダクター） 4.酸化物のコンダクターTCO:ITO、AZO、IZO… 5.金属のコンダクター:Al、CU、Mo、Ag… 6.光学フィルム:Ta2O5、Nb2O5、SiO2、TiO2… 7.半導体:ZnO、InGaZnO… 8.絶縁体:SiO2、SiNx、AlOx、AlNx… 9.均等性:網を渡って±5%