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... 概要 光学コーティングのための最も革新的な原子層蒸着システム、レイボルド・オプティクスALD 1200を体験してください。プラズマエンハンスド空間ALDにより、最大8x 300 mm基板上の両面超均一膜を実現します。このシステムは、微細構造および曲面3D基板上に、超薄膜、高密度、応力制御されたコーティングをシングルパスで両面成膜します。最大300 mmの基板8枚への高い成膜レート、50～230℃のプロセス温度、および完全にカスタマイズ可能なウェーハハンドリングソリューションにより、クラス最高の適合性と半導体グレードのスループットおよび清浄性を兼ね備えています。 主な利点
- あらゆる面で精密：ナノ構造および曲面3D基板上の超薄膜コンフォーマルコーティング
- 高スループットに最適化：気体の空間的分離により成長率が向上します：
- ニーズに合わせて調整：反転なしの両面コーティングにより、サイクル時間とパーティクルリスクを低減
- 材料の敏捷性：コスト効率の高いスケーリングのための効率的なプリカーサー利用による高い材料柔軟性
- その場での光学モニタリング：OMS
... 装飾的なハードコーティングは、魅力的な色や高い耐摩耗性など、さまざまな要件を満たす必要があります。時計の部品、筆記具、眼鏡などの高級消費財の場合、PVDの高い耐摩耗性と「高品質」のイメージを製品に提供する「ゴールドプレート」ラベルの両方を維持したいメーカーもあります。したがって、3〜5μmの金メッキ層を（TiN + Au）PVD層に堆積させる必要があります。この多層法は、接着欠陥につながる高レベルの内部応力を作り出します。接着不良につながる内部応力を低減するために、完全なプロセスを設定する必要があります。 Royal ...
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... PVD法によるPCB（プリント基板）金メッキ装置です。 RTSP1215 マシンは、スパッタリング蒸着技術による PCB 金コーティング用にカスタマイズされています。 最終完成品または機械に興味がある場合は、お問い合わせください。 ...
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... 燃料効率、ライト級選手、排気縮小および設計柔軟性を追求する車システムは金属と比較される材料の選択に来られたときプラスチックを設計して利点および無制限の潜在性を示す。PPSは彼等の物の自動車産業の生命のにかなり修飾する多目的な特性を貢献するのでとても特別である:より有効、より安全、より快適より美しい;、より適用範囲が広い設計考えおよび形成プロセスで無制限。 PPSのプラスチックのPVDの直接めっき パラジウム/錫のelectroless化学処置のコロイド タイプの活発化を使用してシステム伝統的に達成されたPPSで電気めっきするニッケルは、このプロセス荒くなること呼ばれる。呼ばれる厳しい環境条件、また相当なコスト低減は自動車産業によってのために増加している間直接メタライゼーション ...
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... PECVD＆マグネトロン光学フィルム蒸着システム多面体構造真空コーティング機 Multi950マシンは、R＆D用にカスタマイズされた多機能真空蒸着システムです。陳教授が率いる上海大学のチームとの半年間の話し合いにより、私たちはついに彼らの研究開発アプリケーションを満たすための設計と構成を確認しました。このシステムは、PECVDプロセスで透明なDLCフィルム、ツールへのハードコーティング、スパッタリングカソード付きの光学フィルムを堆積させることができます。このパイロットマシンの設計コンセプトに基づいて、その後3つのコーティングシステムを開発しました。 1.燃料電池電気自動車用のバイポーラプレートコーティング-FCEV1213、 2.セラミック直接めっき銅-DPC1215、 3.柔軟なスパッタリングシステム-RTSP1215。 これらの4つのモデルのマシンはすべてOctalチャンバーを備えており、柔軟で信頼性の高いパフォーマンスがさまざまなアプリケーションで広く使用されています。それは、コーティングプロセスが複数の異なる金属層を必要とすることを満たします：Al、Cr、Cu、Au、Ag、Ni、Sn、SSおよび他の多くの非強磁性金属。 さらに、イオンソースユニット、プラズマエッチング性能、および炭素ベースの層を堆積するためのPECVDプロセスにより、さまざまな基板材料への膜の接着を効率的に向上させます。 ...
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... RTEP1616-SPDC真空メタライジングマシンは、EMIシールド薄膜蒸着用に特別に設計されており、電気通信デバイス、コンピューター、ノートブック、家庭用電化製品、家電製品、航空宇宙および軍事アイテムで広く使用されています。 チャンバーサイズは直径1600mm、高さ1600mmで様々な製品に対応できます。 EMIシールドフィルムのプロパティ 1）フィルムの厚さ：1.5〜3ミクロンは要件によって異なります。 2）フィルム抵抗：（Ω）0.5Ωより良い 3）接着：3M810テープ> ...
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... タンタルは、侵食に対する耐性が優れているため、電子産業で保護コーティングとして最も使用されています。 用途 1.マイクロエレクトロニクス産業。膜を反応的にスパッタできるため、抵抗率と抵抗の温度係数を制御できます。 生体適合性の高い特性を備えた、体のインプラントなどの医療機器。 サーモウェル、バルブ本体、ファスナーなどの耐食性部品のコーティング。 コーティングが連続的で欠陥があり、基板に付着することを保護する場合は、スパッタされたタンタルも効果的な耐食性バリアとして使用できます。 メリット -標準化されたトロリーが適用され、堆積チャンバーの内外への基板ホルダーとワークピースの簡単で安全なロード/アンロードを可能にします。 -システムは安全に連動しており、誤操作や危険な行為を防止します。 -チャンバーの中心に取り付けられた基板ヒーター、高精度のPID制御熱電対が提供され、凝縮膜の接着を強化します。 -チャンバーに接続されたゲートバルブを介して磁気サスペンション分子ポンプを備えた強力な真空ポンプ構成。レイボルドのルーツポンプと2段式回転羽根ポンプ、メカニカルポンプで支えられています。 -高エネルギーイオン化プラズマ源がこのシステムに適用され、均一性と密度を保証します。 ...
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... RTASシリーズは、金属部品、ステンレス鋼オブジェクトの一般的なグラファイト、漆黒、青、銅、青銅色に統合された複数の蒸着ソースマシンです。特に高級な高級部品に使用されます。 応用 ジュエリー、時計のストラップと本体、ステンレス鋼のスポーツ、筆記具 家電 円弧およびシリンダースパッタリング蒸着ソースを備えたRTAS。 DCスパッタリング、MFスパッタリング、アーク蒸発、イオン源などの複数の組み合わせ。1台の機械ですべてを利用できるため、さまざまなアプリケーションを満たすための構成の柔軟性が高くなります。特に小さなコンポーネントの美的コーティング：漆黒、銅、真鍮、クロム色。 DCと比較して、中周波スパッタリングは、コーティングの大量生産、特に光学コーティング、ソーラーパネル、多層、複合材料などの表面に誘電体および非導電性フィルムコーティングを成膜するための主要な薄膜スパッタリングテクニックになっています。映画など MFスパッタリングターゲットは常に2セットで存在していました。 ...
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... 軍の電子工学のたる製造人のマグネトロンの放出させるコーティング植物 DPCプロセス直接銅板はLED/半導体/エレクトロニクス産業と適用される高度のコーティングの技術です。1つの典型的な適用は陶磁器で基質を放射します。 たる製造人のAl2O3、AlN、Siの伝導性のフィルムの沈殿は、PVDによるガラス基質従来の製造方法と比較される放出させる技術に掃除機をかけます: DBC LTCC HTCCの特徴: 1. 大いに生産費を下げて下さい。 2. 顕著な熱管理および熱移動の性能 3. ...
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... 金はスライド ガラスに塗り、シリコンの薄片はsubstragesのAuの金属の薄膜の層を、のような沈殿させるために放出させるDCのマグネトロンのPVDプロセスを使用します:スライド ガラス、シリコンの薄片、金属の宝石類、鋼鉄の、ガラスおよび陶磁器製品等。 放出させるAuを除いてそれはまたAgの銀、CUの銅、Alアルミニウム、Cr クロム、伝導性のフィルムまたは高く贅沢な装飾の塗布のためのSSのステンレス鋼316L等を放出させることができます。 金の放出させる層の特徴: 1. 付着を改善するために推薦される基質間のチタニウムまたはCrの付着の層および金の層は強いです; ...
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... 1. 放出させるマグネトロンはターゲット表面へ血しょうコーティング プロセス材料を放出させることによってですイオンの衝突が出された原因です。PVDのコータの真空槽はアルゴンのような不活性ガスで、満ちています。 2. マグネトロンの放出させるコーティング装置のバッチ タイプは続の主要部分を含んでいます: マグネトロンの放出させる陰極:シリンダーか平面のタイプ; 電源:脈拍DC、MF、RF イオン源:一般に排出する白熱のプラスチック/ガラス/陶磁器/金属部分のために血しょうクリーニング。 バイアス電源:伝導性の仕事の部分にだけ取り組みます:鋼鉄、鉄、鋼鉄合金、zamak、アルミ合金、黄銅等。 真空ポンプのパッケージ:回転式ベーン・ポンプ、回転式ピストン・ポンプは、ポンプ、拡散ポンプ/ポンプ等を握るターボ分子ポンプを定着させます。 他:谷/真空ゲージのMFC、真空の付属品および真空の配管ラインの供給をゲートで制御して下さい、 3. ...
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... DLC（Diamond Like Carbon Coating）コーティング装置は、エンジン部品、非鉄金属の切削工具、摺動シール部品、繊維産業などの産業分野で広く使用されています。 このシリーズの装置は、様々なDLCコーティングに適しており、お客様のニーズに応じて、フィルター付きアークイオンプレーティング、アンバランスマグネトロンスパッタリング、PE-CVDなどの組み合わせを装備することができます。自動車部品製造、機械部品、金型、ベアリング、打ち抜き絞り型、金型、航空宇宙部品などに適しています。 当社が開発した「中間層技術」のDLC膜は、中間層に着目することで、良好な密着性、耐摩耗性、高硬度、低摩擦係数、低表面粗さを実現し、DLC膜がより優れた性能を得ることができます。低温成膜技術のボトルネックを解消することに成功し、DLC膜がより多くの分野で展開できるようになりました。 ...
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... マルチアーク式イオンプレーティング装置は、成膜速度が速い、イオン化率が高い、イオンエネルギーが大きい、膜の結合力が良い、装置の操作が簡単、ランニングコストが低い、生産効率が高いなどの特徴があります。ミクロンの厚さのハードコーティングは、効果的にメッキされている製品の外観を保護することができます。低温コーティングプロセスは、様々な材料への蒸着を実現し、複数のコーティングプロセスの組み合わせにより、より多くの色を作り出すことができます。 高真空ロール・ツー・ロール・コーティング・マシンは、高効率、安定性、コスト効率を兼ね備えています。電子ペーパー、フレキシブル回路基板、太陽電池、水・酸素バリアフィルム、光学コーティング・タッチパネルなどの業界で、様々なガラス基板やフレキシブル基板に適しています。また、タバコパックのダイレクトコーティング紙、レーザー、偽造防止、高度なホットスタンプ材料、ハイエンドカラー印刷パッケージコーティング、完全互換メディアコーティング、断熱・省エネフィルム、シールドフィルム、導電性フィルムなどのフィルムにも適用できます。機械加工可能な材料は以下の通りです。ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、ナイロン、セラミックス、金属など。 ...
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... Conjoinedコーティング装置は、ソースの強さに基づいて、高品質、高効率、高安定性を確保し、より完璧な真空コーティング量産ソリューションを立ち上げます。連続コーティングは、コーティングチャンバーが大気にさらされるのを防ぐことができ、コーティングプロセスの安定性を確保するだけでなく、ポンプの時間を節約し、生産効率を倍増させることができます。真空ユニットの簡略化と最適化された構成による結合装置は、同じ数の製品をめっきする場合のエネルギー消費量は、単一装置のエネルギー消費量の約60％であり、効果的にエネルギーを節約し、企業のコストを削減し、設備投資の回収期間を大幅に短縮することができます。 ...
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... 巻線用マグネトロンスパッタリング/蒸着コーティング装置 高真空ロール・ツー・ロール・コーティング装置は、高効率、安定性、コストパフォーマンスを兼ね備えた装置です。電子ペーパー、フレキシブル基板、太陽電池、水・酸素バリアフィルム、光学コーティング・タッチパネルなどの業界で、各種ガラス基板やフレキシブル基板に適しています。また、タバコパックのダイレクトコーティング紙、レーザー、偽造防止、高度なホットスタンプ材料、ハイエンドカラー印刷パッケージコーティング、完全互換メディアコーティング、断熱・省エネフィルム、シールドフィルム、導電性フィルムなどのフィルムにも適用できます。機械加工可能な材料は以下の通りです。ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、ナイロン、セラミックス、金属など。 ...
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... 中周波マグネトロンスパッタリングコーティング装置は、速いスパッタリング速度と高い成膜速度という利点があり、ターゲットアークに当たることを完全に克服し、ポイズニング現象を効果的に制御することができます。合金膜、多層複合膜などを金属製品や非金属製品の表面にメッキすることができます。美しい塗膜、微細な表面、耐摩耗性、耐色性などの特性を持ち、様々な色のメッキを施すことができます。現在では、国内の有名OEMメーカーに広く採用されています。携帯電話ケース、パソコンアクセサリー、マグネシウム合金部品、高級浴室金具などの表面処理・加工に広く使われています。 ...
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... 時計用ジュエリーコーティング装置は、カソードアーク、高出力中間周波スパッタリングとDCスパッタリング、補助高電圧イオンボンバードとパルスバイアスにより、コーティングが緻密になり、密着性と光沢が向上します。装置には、金属膜、複合膜、多層複合膜などのコーティングが可能です。 ...
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... 当社の光学式マグネトロンスパッタリング装置の技術は、安定した成膜システムを持ち、それを支える精密な制御方法は、大手企業を中心に広く採用されています。 また、このタイプの装置には、お客様の生産性と効率を最大限に高めるための化学装置が完備されています。当社独自のSI高電離層ターゲットソースは、バランスのとれた高屈折フィルムの生産準備を補完するのに役立ちます。この技術により、AR+AFフィルムやカラフルなグラデーションフィルム、光学フィルムを製造することができます。低温での成膜が可能なため、様々な製品の表面膜の製造に使用できます。本装置は、全自動スパッタリング制御モードを有し、フィルムの状態をリアルタイムに監視し、安定したバッチ生産を実現します。 ...
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... 磁性材料真空防錆塗装装置（バレルめっき 現在のNdFeBコーティングの急激な需要に対応するため、最新の改良型NdFeB表面コーティング装置を導入しました。この装置は、バレルめっきであるため、お客様の少量の磁性鋼コーティングのニーズを解決します。当社は豊富な業界経験を持ち、お客様の悩みを解決するためにワンストップサービスを提供します。 ...
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... 連続マグネトロンスパッタリングコーティング製造ライン マグネトロンスパッタリングによる低温成膜法と高圧イオンボンバード法により、ネオジム・鉄・ボロン材料にDyとTbを素早くコーティングし、粒界拡散技術により高性能な磁性材料を得ることで、重希土類の使用量を削減し、企業の製品製造コストを低減することができます。 生産要求に応じて、当社はターゲットの使用率、コーティングの転換率、蒸着率、生産効率などの問題について特別な設計プランを作成します。お客様のコスト管理を満足させ、包括的なソリューションを提供します。 ...
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... 磁性体真空防錆塗装装置（ラックめっき マグネトロンスパッタリング、蒸着、電気アーク、イオンボンバードなどの方法で、基材の表面にアルミ・合金、チタン、クロムなどの金属膜を迅速にめっきし、磁性材料の表面に防食皮膜を形成するのに適しており、高い防食性能と皮膜層の結合力を持ち、製造工程での汚染がなく、製品の欠陥につながる電気めっき液の残留を避けることができます。 ...
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... Discovery Vは、Versa Clusterプラットフォームでの使用に最適です。高い均一性、高い深度、小さなフットプリント、高い稼働率を実現し、大量生産に対応する汎用性と信頼性を提供します。 薄膜抵抗器・センサー ウェハー金属膜・誘電体膜 化合物半導体のメタルコンタクト 研究開発 Discovery Vは、マグネトロンスパッタリング用のプレーナカソードを使用し、Versaプラットフォーム上に完全に統合された高速均一成膜モジュールです。300mmカソードを使用し、標準的な200mmウェーハまで対応可能です。また、調整可能な回転式マグネットパックを採用し、均一性の最適化を図り、大量生産に対応した高いレートを実現しています。 平面型カソード構成では、カソードは基板の真上に設置されます。この構成では、膜厚、シート抵抗、屈折率などの特性について、スパッタリング中に基板の片側で厳しい均一性を得ることができます。共蒸着が要求されないアプリケーションに最適な構成です。また、このカソードセットアップでは、歩留まりの向上、良好なリフトオフ能力、高い成膜レートが得られます。 ...