光起電性貯蔵マシン CsI950

アーチ蒸発式金属化フィルム真空

CsI950高真空の沈殿システムは非常に高真空の環境のシンチレーション スクリーンのCsIそしてTIIのメタライゼーションのために専ら設計されている。CsIのscintillators厚さおよび明るさの性能の高い均等性の厚さの範囲の200~600µm: イメージ投射の超高い空間分解能; より鋭いイメージ投射のための速い応答; クラスの一流の端に端のイメージ区域; 光学層か反射器の層を吸収しなさい; 低く忍耐強いX線の線量。 応用基質:TFTガラス、繊維光学の版、無定形カーボン版、アルミニウム版 適用:保安検査のためおよび点検、高エネルギー物理学の教育、核radiatonの検出および医用画像処理:箱の検査、mamography、歯科内側の口頭およびパノラマ式。