PECVDプラズマ発生器 TruPlasma DC Series 4000 (G2)

光起電性

概要
TruPlasma DC Series 4000 (G2) は、困難な材料の反応性直流スパッタリング向けに設計されたパルス式直流電源です。パルス運転とバイアス運転の両方に対応し、重要な PVD／PECVD プロセスで安定したプラズマ性能を提供し、アークによるダウンタイムや基板損傷を低減します。

タグライン
パルスプロセスで実現する光沢ある表面

主な特長

• デジタル信号処理によりプラズマ制御が安定し、アーク関連の時間損失を最小化。
• 低アークエネルギーの高速アーク処理で基板損傷や表面欠陥を抑制。
• 広い可変パルス周波数と可変リバース／バイアス電圧により柔軟なプロセス調整が可能。
• ウォーターチラー内蔵のコンパクトで堅牢な筐体により設置スペースとメンテナンスを削減。
• デュアル機能：1台でパルス運転とバイアス運転の両方をサポート。

用途

• ハードコーティング：表面硬度向上や熱・化学的安定性の向上に貢献する安定したプラズマ。
• メタライゼーション（PVD）：光学・電気特性を得るための超薄膜で均一な金属層の堆積。
• 太陽電池：低アークエネルギーが求められるTCOなどの導電性透明膜の堆積に適合。
• 建築用ガラス：大面積PVDコーティングで高品質な被覆を実現。

顧客へのメリット

• 飛散物（ドロップレット）や表面欠陥の低減により、コーティング品質と生産性を向上。
• 可変パルス周波数やバイアス運転により、多様なプロセス要求に柔軟に対応。
• 高度な監視・診断ツールによりプロセス最適化を支援し、稼働停止時間を短縮。

オプション

• 複数電源の並列運転および同期機能（アーク検出の同期やパルスモードの同期が可能）によりマルチターゲットシステムに対応。

ソフトウェア
PVD Power：多言語対応のユーザーフレンドリーなソフトウェア。操作、構成、診断をサポートし、実測プロセス値、警告/アラーム表示、セットポイント設定、動作パラメータの高時間分解能での記録・可視化（オシロスコープ機能）を提供。

仕様 / 技術データ

• 技術：反応性 DC スパッタリング用のパルス式直流（Pulsed DC）、バイアスモード対応。
• 動作モード：パルスモードおよびバイアスモード（1台で両対応）。
• アーク処理：デジタル制御による高速アーク応答、低アークエネルギー。
• プロセス制御：デジタル信号処理、広い可変パルス周波数帯域、可変リバース電圧。
• 冷却：ウォーターチラー内蔵によるコンパクト設置とメンテナンス低減。
• 拡張性：複数電源の並列運転・同期が可能で、マルチターゲット／マルチステーションに対応。
• 監視・記録：高時間分解能のパラメータ記録、オシロスコープ機能および診断ツール。