化学気相成長貯蔵マシン NEXUS CVD

薄膜

関連CVDの単位はより大きい400 gb/inの²密度によって特徴付けられる高度の薄膜の磁気ヘッドの使用を可能にする金属の沈殿プロセスをオペレータに与える。 Veecoは等角の金属の沈殿プロセスのための市場の必要性に対応するためにこの単位を製造した。 この単位はまたデータ記憶の概念の製造業者の直線と設計されている。 さらに、この単位はVeecoの技術および機能性の共通金具そしてソフトウェアプラットホームと共に使用されるかもしれない。