Han's Laserの冷却レーザー

出力: 10 W - 50 W
波長: 1,064, 532 nm

... 年に設立され、丈夫で耐久性のある産業用 レーザーで、24時間365日の産業需要を満たします。長期にわたって優れた性能を発揮し、様々な微細加工分野で広く使用されています。モジュール設計により、必要に応じて異なる光学設計に柔軟に組み合わせることができ、異なる波長、異なる出力、異なるパルス幅の出力の組み合わせを実現し、様々な業界の要求に応えます。 用途 各種ボタンの レーザーマーキング 電子機器のプラスチックシェルマーキング テレフォンカードやスマートカードの レーザーマーキング 宝飾品および金物工具のマーキング ...

出力: 3, 5 W
波長: 355 nm

... 200kHzまで調整可能 光学系と制御系の統合設計 TEM00出力 革新的な設計の新製品として、実績のある共振器内周波数倍増技術を採用し、様々な精密マーキングプロセスに一括適用されています。UV レーザーは出力の限界を突破し、ユニークな超高コストパフォーマンスを持つため、その応用は急速に増加し、極端な製造分野でブ レークスルーをもたらすでしょう。 応用例 ハイエンド電子製品のロゴマーキング 食品、PVCパイプ、医薬品包装、ケーブルワイヤー（HDPE、PO、PPなど）のマーキング PCBおよびEPCのQRコードマーキング ...

出力: 8 W - 50 W
波長: 1,064, 532, 355 nm

... 1. ガラス、サファイア、セラミックスなどの脆性材料の微細加工 2. ガラス素材への超精密マークポイントや目に見えない極小QRコード（0.2mm*0.2mm）の微細マーキング。 3. 金属製医療器具への耐酸腐食性、耐酸化性などのト レーサブルマーキング。 4. プラスチック、酸化物、有機物の切断や穴あけ、表面コーティングの除去。 5. ハイエンド電子製品の外部ロゴ。 6. 超硬素材の精密成形 7. 化学腐食を使用しない金属材料の深絞り加工。 ...

出力: 70 W - 80 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 水冷式短キャビティCO₂ レーザー、出力範囲70W～80W、波長9.2～10.8μm、入力DC電源48V/30A。 短い共振共振器、共振器内のビーム整形システム、良好な レーザー安定性、300mm後の準基本モードガウシアンビーム出力、輸入された高品質のキーコンポーネント、高速マーキング、迅速な整形（焼結）、高度な防塵設計、様々な産業ケースに適しており、小さな溶融エッジと非金属材料のマーキング＆切断などの広いアプリケーションでより微細な統合システム加工ライン。 用途 セラミックのスクライビング、穴あけ ...

出力: 80 W - 200 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 水冷式CO₂ レーザー、定形スポット、出力範囲80W-200W、波長9.2-10.8μm、入力DC電圧48V。 高出力、良好な出力モード、外部光路のビーム整形システム、準基本モードガウシアンビーム出力と細線。用途PCB微細穴加工、FPCB加工、プラスチック精密切断、ポークマーキング、3Dプリンティング、セラミックスクライビング/ドリル、ガラス切断とクラッディング、バックライトと精密金属切断とクラッディング、および非金属材料（革、経典など）マーキング、彫刻、スクライビング、切断。 用途 携帯電話シェル ...

出力: 280 W - 320 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 水冷式CO2 レーザー、出力範囲280W-320W、波長9.2-10.8μm、入力DC電源48V/110A。 高出力、良好な出力モード、外部光路のビーム整形システム、準基本モードガウシアンビーム出力と細線。用途PCB微細穴加工、FPCB加工、プラスチック精密切断、ポークマーキング、3Dプリンティング、セラミックスクライビング/ドリル、ガラス切断とクラッディング、バックライトと精密金属切断とクラッディング、非金属材料（革、経典など）マーキング、彫刻、スクライビング、切断。 用途 携帯電話シェル加工 ...

出力: 80 W - 200 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 水冷式CO2 レーザー、出力範囲80W-200W、波長9.2-10.8μm、入力DC電圧48V。 良好な レーザーモード、コンパクトな構造、微細なライン、準基本モードガウシアンビーム出力、スポット真円度<1.5:1、輸入された高品質の主要コンポーネント、高出力、良好な安定性、高度な防塵設計、様々な産業ケースに適した、小さな溶融エッジ、精密切断/マーキング、広い産業アプリケーションと強い包含性を持つより微細な統合システム加工ライン。 用途 セラミックスクライビング、ドリル＆彫刻、PCBまたはFPCB ...

出力: 12 W - 14 W
波長: 9.2 µm - 10.8 µm

... 10W空冷CO₂ レーザー、出力範囲12W--14W、波長9.2-10.8μm、入力DC電源30V/12A。 空冷設計、水冷機のコスト削減、統合が簡単、統合キャビティ設計、コンパクトな構造、便利な安全デバッグとメンテナンス、エンドプ レートの金属シールとネジ調整、高い信頼性と生産利便性、輸入された高品質の主要部品、直流電源、過電圧と低電圧保護、高度な防塵設計、様々な産業ケースに適し、小さな溶融エッジでより微細な統合システム加工ライン、広い産業応用と強い包容力。 用途 非金属材料マーキング、3C部品表面変色 ...

出力: 12,000 W - 50,000 W
波長: 1,080 nm

... レーザー切断、 レーザー溶接、 レー ザークラッディング、 レーザー洗浄、積層造形など。 Han's Photonicsのマルチモジュール連続ファイバー レーザーは、高い出力安定性と強力な反射防止能力を持つだけでなく、40％以上の高い光電変換効率を持ち、加工性能を根本的に改善し、機械の消費電力を削減します。その新世代の自己開発電子制御システムは、より互換性があり、より簡単で、よりユー ザーフレンドリーであり、リアルタイムの内部監視、高速データフィードバック応答、マイクロ秒での変調パルス応答を提供します。この ...

出力: 500 W - 8,000 W
波長: 1,080 nm

... レーザー切断、 レーザー溶接、 レー ザークラッディング、 レーザー洗浄、積層造形など。 ハンズフォトニクスのシングルモジュール連続ファイバー レーザーは、コンパクトで軽量、新設計のモジュールを搭載し、光電変換率が高く、より多くのエネルギーを送り込むことができます。新世代の自社開発電気制御システムを搭載しており、装置の互換性が高く、操作が簡単です。リアルタイム内部モニターと高速データフィードバック応答があり、パルス変調応答はマイクロ秒の範囲にある。また、Hanの レーザー専門家レベルのアプリケーション分析と ...