酸化炉

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焼きなまし炉
焼きなまし炉
JetFirst Bench Top RTP System 100/200-mm

温度: 1,300 °C

... 研究開発ラボや小規模生産ユニットの要件を満たすように特別に設計された、汎用性と費用対効果の高いソフトウェア制御ベンチトップ型高速熱処理(RTP)ツールです。 処理能力: * 急速熱アニーリング/RTA * インプラント監視 * 急速熱酸化/RTO * 急速熱窒化/RTN * 急速熱拡散 / RTD-例えばスピンオンドーパント * 結晶化、炭化 * 接触合金 * セレン化(オプション付き) ハードウェア) ...

熱処理炉
熱処理炉
VF-5900

シリコンウェーハ、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハの酸化・拡散・CVD熱処理装置。 大容量ストッカーを備え、短タクトタイムを実現したフラッグシップモデル。 300mm・12インチウェーハ最大100枚、FOUP16個の一括処理が可能なラージバッチ量産タイプの縦型拡散炉です。LGOヒータの採用で低温~中高温まで優れた温度特性を発揮します。シリコンウェーハ以外にもIGBT、ポリイミド、薄ウェーハなどの熱処理に適しています。

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Koyo Thermos Systems
酸化炉
酸化炉
EASYLAB 304 S

温度: 0 °C - 1,100 °C

... EASYLAB 炉の主な特徴- ミネラルファイバー断熱材。 - 全自動デジタルコントローラー(セルフチューニング機能付き - ウィークリータイムスイッチ - 電気パネルボード、IP55シリーズ - 人間工学に基づいた手動式ドア - 高温部を危険なく処理するためのワークテーブル - 耐圧規格に準拠。 - 耐火鋼合金プレート(モデル304 S)。 - 気密性の高い耐火鋼合金のマッフル(モデル304 S/AC)。 硬化前の加熱用ツール - 技術指導。 - 研究室の様子 ...

熱処理炉
熱処理炉

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 当社の人気のある中型熱処理炉は、2200 ℃ までの温度が可能な1 立方フィート(28l)の使用可能ゾーンを含み、多数のオプションを装備することができます。 このユニットは、ターボシステムと当社のHMIコンピュータインターフェイスパッケージを備えています。 その他のオプションには、水素、拡散および極低温ポンプシステム、ガス、パイロメータなどの急速冷却のための熱交換器での動作が含まれます私たちはあなたの特定のニーズに合わせて炉をカスタマイズします。 ホットゾーンは、タングステンロッドまたはメッシュ加熱要素を備え、優れた均一性と長寿命を保証します。 ...

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Materials Research Furnaces
熱処理炉
熱処理炉

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 私たちの大規模な熱処理炉は、3 立方フィート(84リットル)の使用可能なゾーンを含み、私たちの他の熱処理炉として、2200 ℃ までの温度が可能です 800ポンド(364 kg)の負荷制限で、それは高い負荷容量を備えています。 ここに示すユニットは、16インチ拡散ポンプシステムと、急速冷却のためのガス熱交換器を備えています。 ホットゾーンは、タングステン、モリブデン、タンタルメッシュまたはロッド発熱体を特徴とし、優れた均一性、寿命、および製品互換性を保証します。 ...

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Materials Research Furnaces
はんだ炉
はんだ炉

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 当社の4ステーションインデックス焼結炉は、電子部品の高温焼結用に設計された最高のスループットモデルです。 4つの負荷が同時に処理され、半連続プロセス焼結プロセスが作成されます。 炉は、直径 12インチ × 高さ22インチ(305ミリメートルX 559ミリメートル)の使用可能なゾーンを有し、この設計は、大容量バッチ処理に最適です。 この炉は、5つのチャンバ、転送機構を含む底部索引付けチャンバ、ロードおよびアンロードのためのチャンバ、加熱室、冷却のための1つ、および制御された酸化のための1つを備えています。 ...

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Materials Research Furnaces
酸化炉
酸化炉

温度: 1,600 °C

... 炭素繊維生産のためのファーネスライン(パイロットプラントユニット) 最大 1600°Cまでの ファーネスライン(パイロットプラントユニット)、最大1600°Cまでの 用途: PANの炭素繊維の生産/熱処理のためのグラファイト/炭化、酸化炉ライン(3〜48)酸化のためのチャンバー炉(FKU-4-200/200/2000/300)、炭化のためのチューブ炉(FRHT-4-100/2000/1100)および黒鉛化のためのチューブ炉(GRH-4-100/2000/1100)からなる。 ...

焼きなまし炉
焼きなまし炉

... 詳細 高純度拡散、アニーリング、酸化 拡散炉HTFは、最大4つの個別に制御可能なチューブが装備されています。 チューブ内のボートの積み下ろしは、ユニットを積み込むことによって自動的に行われます。 1つのボートはサイクルごとにチューブにロードされます。 ボートは、バックツーバックローディングで500ウェーハで満たすことができます。 ドライブインとヒートアップステップの後、プロセスは温度安定化から始まります。 その後、窒素をPOCl3液体のキャリアガスとして使用します。 ...

焼きなまし炉
焼きなまし炉
HICON/H2®

... 鉄鋼産業用熱処理炉設備 HICON/H2® アニーリングおよびコーティングライン(ACL) 冷間圧延後、高度に加工された非粒子指向電気ストリップ(NGO)を水平連続炉で再結晶化し、粒径を二次再結晶によって調整します。 次に、電気モータの渦電流損失を低減し、腐食を防ぐために、ローラーコーターを使用して絶縁ラッカーの薄い層をインラインで塗布します。 この生産ステップのプロセスステップは次のとおりです。 連続炉の加熱セクションで急速ストリップを洗浄する多段ストリップ(オプションで500K/sまでの急速加熱システム) オプション: 再結晶のための磁気エイジングアニーリングを防止するための脱カーバー化プロセス雰囲気における不連続な粒子の成長 遅い冷却ゾーンと最終冷却ゾーンでの冷却制御 ローラーコータ、フローター炉での乾燥によるコーティング このシステムの特殊な設計上の特徴は、以下の利点を提供します: 優れた炉による最小の露点シーリングコンセプトと最大100%の水素プロセス雰囲気は、特に最高品質の電気鋼グレード (> ...

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EBNER
焼結炉
焼結炉
DBC

温度: 1,100 °C

... DBC焼結炉 この製品は、特にパワー半導体デバイスの高温熱処理に使用されます。 1、技術指標 温度RT-1100Cの使用 炉の均一性は、2C ネットワークベルトの速度20-150mm/分無段階調整可能な 自動加熱速度の調整可能な加熱速度は2/分未満 窒素と酸素混合ガス酸素含有量20〜300pp調節可能な 8〜10温度ゾーン温度制御ゾーン ネットワーク帯域幅200ミリメートル 2、進行性 酸化雰囲気が均一で、大気はセグメント化され、制御可能、温度均一性が高い(高い均一性)、自動加熱を調整することができ、安全と保護機能が完全で、メンテナンス作業が便利で、省エネと環境保護、大気閉ループ制御、高温反変形構造、独自の温度制御モードがあります。 ...

酸化炉
酸化炉

... 炉当社の炉は、顧客の能力とニーズに応じて完全に異なる制御可能な加熱ゾーンを持つ両方のプロセスのための便利なツールと設計で完全に自動化されています。 当社の装置は、直径100mm、150mm、200mm、300mmのウェハタイプ用です。 ATMOSPHERIC FURNACES Vegatecは、マイクロエレクトロニクス、ナノエレクトロニクス、太陽光発電の実験室および産業のためのすべての自動化システムを備えた大気炉を設計し、製造しています。 これらの炉は以下の通りです。 酸化炉(湿式酸化および乾式酸化) 拡散炉 ドーピング炉 大気炉の一般的な特徴 使いやすく、使いやすい設計 炉チャンバーのおかげでメンテナンスが容易で、高純度石英で作られたカンチレバータイプのサンプルホルダーは、 クラス10クリーンルームまで作業することができます 高品質のコンポーネントのおかげで長寿命 個別に制御可能な加熱ゾーン 自動化インタフェースの簡単な使用 異なるコンパクトな設計のための積み重ね可能な炉チューブ同時にプロセス 手動または自動ロード能力 各顧客の 研究室または産業規模に応じて容量 ...

乾燥炉
乾燥炉

... 赤外線オーブンは、粉末、溶剤系および水性塗料に適している。 赤外線オーブンは、高い材料厚さや温度に敏感なワークピースに特に適しています。 塗料の乾燥では、放射線が材料に浸透し、塗料フィルムを内側から外側に乾燥させるため、赤外線熱は従来の空気乾燥よりも優れていることが多い。 これは、表面上の皮膚または水疱の形成を妨げ、塗料の乾燥を促進する。 その結果、優れた表面品質が得られます。 優れた粉末濡れのために、これらの乾燥機は、粉末エナメル炉の前にゲル化ゾーンとして頻繁に使用されます。 ...

熱処理炉
熱処理炉

酸化炉
酸化炉

温度: 0 °C - 1,200 °C

... シリコンカーバイド(SiC)と触媒ハニカムを燃焼させる1つのチャンバー炉の酸化のための2つのチャンバー炉からなるガス加熱炉ライン、。 ...