プロセスレーザー

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ショートインパルスレーザー
ショートインパルスレーザー
TruMicro 6000

出力: 200, 62.5, 100, 30 W
波長: 343, 1,030, 515 nm

... TruMicro 6000シリーズの超短パルスレーザは、産業界で実績を残してきた確かなソリューションであり、要件の高い連続生産に理想的です。 スラブ技術を搭載した同機では、柔軟に非常に高いパルスエネルギーまで直線的に増幅できるレーザパルスが実現可能になっています。パラメーターが多種多様に設定可能であるため、複雑なプロセスであっても最適に実現できます。 実際の現場で24時間365日稼働体制で何度も使用され、高い耐久性が証明されており、堅牢性と安定性の高いこのレーザは、例えばコンシューマーエレクトロニクス分野におけるOLEDディスプレイやフレキシブルプリント基板の切断アプリケーションに理想的です。 ...

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TRUMPF lasers
フェムトセカンドレーザー
フェムトセカンドレーザー
IceFyre® FS

出力: 50, 200 W
波長: 341 nm - 1,036 nm

IceFyre FSファミリーは、フェムト秒レーザー技術の飛躍的な進歩であり、業界をリードするパフォーマンス、汎用性、信頼性、所有コストを実現します。IceFyre FSフェムト秒レーザーは、要求の厳しい家庭用電化製品、クリーンエネルギー、医療用デバイス、および産業用アプリケーションに使われるポリマー、金属、半導体、薄膜、複合材料などの難加工材料において高スループットかつ極めて高い品質を要求される微細加工に最適です。Spectra-Physics の It’s in the Box 設計に基づいた ...

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Newport / Spectra-Physics
パルスレーザー
パルスレーザー
ti series

出力: 60, 80, 100, 300 W
波長: 9.3, 10.2, 10.6 µm

tiシリーズ:60W~100Wレーザ空冷CO22レーザーによるパワーと性能の最大化が、弊社のtiシリーズの技術の背後にある推進力です。 Synradのtiシリーズレーザは、特許取得済みのハイブリッド不安定共振器設計を使用して、達成可能な最小スポット・サイズに焦点を絞った優れたビーム品質を備えたコンパクト・レーザを作り上げており、作業面で最大パワー密度を実現します。 そのコンパクトな共振器に合うように特別に設計された高性能RF回路は、卓越した方形波性能で高速な立ち上がり時間を実現します。 高出力、高速パルス出力機能、並外れた光学品質は、レーザビームの高速走査またはパルス出力が必要な用途に理想的です。 ...

CWレーザー
CWレーザー
LDMblue

出力: 400, 800, 1,800, 2,000 W
波長: 445 nm

... 課題 反射率が高い銅や金などの金属は1,000nmの波長範囲におけるエネルギー吸収が低いため、標準的な赤外域レーザでは加工における大きな課題があります。出力強度を加工に必要なレベルまで上げると溶滴や溶融池の一部が周囲に飛散してスパッタとなることが多々あり、電子部品の加工現場では軽視できない問題です。 ソリューション Laserlineの高出力青色半導体レーザシリーズは、銅、金その他非鉄金属の加工に幅広く利用できる、最適なソリューションです。レーザー光は高反射金属材料の加工に理想的な約445 ...

ピコ秒レーザー
ピコ秒レーザー
UV

出力: 1 W - 8 W
波長: 350 nm

... UVマーキングレーザーは、紫外線の高い吸収率により、非常にデリケートな素材に高コントラストのマーキングを行うことができます。フライUVは光化学プロセスによって製品表面を着色し、マーキングによって発生する熱は非常に限られているため、コンポーネントを損傷することはありません。20nsの標準的なパルス時間により、このレーザーは、透明または着色プラスチック、医療用プラスチック、電子部品ハウジング用の高付加性プラスチックなど、さまざまな用途で最適な結果を保証します。このレーザーは、医療分野、家電製品、ガラスマーキングに最適である。 UVマーキングレーザーは、紫外線スペクトルの一部である355nmの波長を使用し、デリケートな素材に高解像度のマーキングを実現する。その効率は、ターゲット素材によるUV放射の高い吸収率に由来し、熱影響を最小限に抑えながら正確なマーキングを可能にする。マーキングプロセスは主に光化学的で、熱の発生を抑え、デリケートな部品の構造的損傷を防ぎます。UV放射の高い吸収指数と20nsのパルス時間により、この技術は透明または着色プラスチック、医療材料、電子部品に使用される高性能プラスチックへのマーキングに特に適している。UVレーザーは、微小破壊を避けることが不可欠なガラスへのマーキングにも最適です。自動化された生産環境への統合は、システムの多用途性と高速生産ラインでの高精度な動作能力によって容易になり、マーキングの品質と耐久性が重要な分野にとって不可欠なツールとなっている。 ...

CWレーザー
CWレーザー
PL series

出力: 1 W - 180 W
波長: 9.1 µm - 10.9 µm

... 連続波(CW)のPLシリーズは、調子、赤外線ガスレーザは、幅広いアプリケーションのための高出力、安定したソースのための基準を設定します。 レーダーモデリング 非線形光学 干渉法 プロセス制御 大気研究 プラズマ密度測定 PL- シリーズのレーザには、9.1μm ~ 10.9μmのステップチューニング可能な波長を備えたグレーティングチューニングされたCO2レーザがあり、数ワット(モデルPL2)から50W(モデルPL5)、さらには180W(モデルPL6)まで、それぞれが優れた振幅と周波数安定性によって特徴付けられる、技術的に困難な ...

フェムトセカンドレーザー
フェムトセカンドレーザー
TANGOR 300

出力: 100, 200, 300 W
波長: 343, 515, 1,030 nm

... パワフルで多機能なTangor 300は、あらゆる産業および科学のニーズに対応します。 Tangor 300 で、生産プロセスを加速し、研究を進めましょう。 Tangor 300 は、高繰り返し、リアルパルスオンデマンド、高エネルギー、高ビーム品質を兼ね備えた強力なフェムト秒レーザです。大面積加工、高速加工などの新しい産業用途から、高電界THz発生、高光束高周波発生などの最先端科学用途まで、ユニークな機能を備えたTangor 300は、幅広い応用を可能にします。 発生、高フラックス高周波発生、光電子分光などの最先端の科学的応用を可能にします。 ...

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Amplitude
フェムトセカンドレーザー
フェムトセカンドレーザー
HPF-50-IR

... 高度なチャープパルス増幅技術により、回折限界に近いフェムト秒レーザー出力を実現。半導体や家電の分野でバッチ使用されており、優れたプロセスと良好な安定性を持っています。 1) フェムト秒パルス 2) 高いパルスエネルギーとピークパワー 3) 回折限界に近いビーム品質 4) 高い安定性と信頼性 応用例 1) 切断、穴あけ、スクライビング (ガラス、シリコン、セラミック、FPCB) 2) 薄膜パターン(金属、薄膜) 3) マーキング(ガラス、シリコン、セラミック、金属、プラスチック) ...

パルスレーザー
パルスレーザー

波長: 1,535 nm

1-10kHz PIN 1535nm エルビウム ガラス レーザー モジュールは、ERDI TECH LTD の高重周波人眼安全レーザーです。このシリーズの製品には PIN が組み込まれており、レーザー同期信号を出力できます。半導体パッケージングプロセス、コンパクトサイズ、安定した性能、安定したシングルパルスエネルギー、ビーム品質を採用しています。単一パルスのエネルギーは安定しており、ビーム品質は良好です。

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