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出力: 20 W
波長: 1,055 nm - 1,075 nm
... Y.0200-Sは、産業用ダイレクト・パーツ・マーキング・アプリケーション向けにコンパクトで汎用性があり、高い信頼性を提供します。 コンパクトなファイバーマーキングレーザーは、エレクトロニクス、工具、金属、自動車産業のさまざまな金属、プラスチック、その他のマーキングが難しい材料に信頼性の高いマーキング結果を提供します。 刻印、高コントラストの色の変化、材料の除去、アニーリングなど、20ワットパルスソリッドステートファイバーレーザーマーカーは、さまざまなアプリケーション要件に対応し、複雑な可変データ（IDマトリックス/バーコード、ロゴ、文字、シリアル番号、個別データなど）を移動または静的なプロダクト。 ...
出力: 0.001, 2,000 W
波長: 213 nm
... PND-M00210は、PowerChip™ 受動Qスイッチマイクロチップレーザーシリーズの最新レーザーで、1064nmステージの高度な5倍波変換により213nmの光を伝送します。最大1 kHzの繰り返し動作が可能です。 レーザーヘッド、電源、空冷を含む完全に統合されたプラットフォームで、コンパクトで頑丈なターンキーパッケージを特徴としています。 主な特長 > ファミリーPowerChip > エネルギー/パルス：2 µJ > 繰り返し周波数 0.4 kHz ...
出力: 200, 100, 30, 50 W
波長: 1,030, 515, 343 nm
連続生産でも最高の要求に対応 TruMicro 6000シリーズの超短パルスレーザは、スラブ技術により、非常に高いパルスエネルギーまで直線的に増幅できるレーザパルスを実現しています。パラメータは非常に柔軟に選択することができるため、要求の厳しいプロセスでも最適に実行することができます。TruMicro 6000シリーズの高品質で安定したレーザは、家電分野でのガラス切断やフレキシブルプリント基板の分離など、お客様の連続生産で問題なくご使用いただけます。 超短パルス時間での高パルスエネルギーなど、要求の厳しいパラメータを個々に組み合わせることができます。 赤外線（IR）、グリーン、紫外線（UV）など、適切な波長を選択することで、様々な材料を最適に処理することができます。 内部の出力調整機能により、安定した出力パラメータと均一なプロセス結果を実現します。 超短パルスレーザは、高パルスエネルギーにより高い平均出力を実現します。 TruMicro ...
TRUMPF lasers
出力: 20, 10 W
波長: 1,030 nm
構造・削剥・カッティング・穴開けなどを問わず、レーザはマイクロ加工技術において不可欠なツールになっています。TRUMPFが提供する短パルス及び超短パルスレーザTruMicroは、まさにこの加工のために設計された革新的な固体レーザです。本機により品質、生産性、及び収益性のすべてにおいて最適化されたマイクロ加工が可能となります。またTruMicro 2000シリーズのファイバベースの超短パルスレーザの優れた特徴として、コンパクトで軽量な構造が挙げられます。超短パルスレーザ用光ファイバ ...
TRUMPF lasers
出力: 15 W - 150 W
波長: 1,030, 515, 343 nm
TRUMPFの短パルス及び超短パルスレーザは工業生産での使用に完璧に適しており、品質、生産性及び収益性のすべてにおいて最適化されたマイクロ加工が可能となります。特筆に値するパルス及び出力安定性は、パルス発生とパルス放出を分離することで実現します。特許取得済みのコントローラが個々のパルスを監視し、出力とパルスエネルギーをアプリケーションに合わせて正確に必要なレベルに維持します。また、TruMicro 5000シリーズのピコ秒レーザは、超短パルスと最大500 μJに達する高いパルスエネルギーを誇ります。さらにそのビーム品質も極めて優れており、平均出力は最大150 ...
TRUMPF lasers
出力: 3, 6, 10 W
波長: 355 nm
ULPN-355-M 最大10 W UVパルスファイバーレーザーモジュール IPG Photonicsの新しいULPN-MシリーズUVナノ秒ファイバーレーザーは、10～1000 kHzの最大限の動作繰り返し率範囲で、最大10 Wの拡張可能な平均出力、1 ns パルス幅で、高い最大出力を供給します。すべてのファイバー形式により、出力ビーム特性のいずれにも影響することなく、パルスエネルギーやパルス繰り返し率を調整できます。IPGの新しいファイバーレーザーは、従来のレーザーよりも効率的かつコンパクトで、ソーラー/太陽電池の活動領域、レジスタートリミング、透過性材料のマーキングのアプリケーションに理想的です。短波長、短パルス幅、高い最大出力によって、熱影響部が非常に小さくなります。 機能 ...
IPG Photonics Corporation/IPGフォトニクス
出力: 1 W - 3.5 W
波長: 680 nm - 1,300 nm
多光子イメージングに最適な、広帯域波長可変超短パルスレーザー • 最大級の市場設置実績 • 950件以上の査読済み出版物で実証された高い信頼性 • 高い柔軟性を実現する幅広いチューニング範囲（680-1300nm） • 高ピークパワーにより最大蛍光発生 • 内蔵出力調整のInSight X3+ AおよびInSight X3 Aモデル アプリケーション • バイオイメージング • 2光子蛍光顕微鏡法 (2PF) • コヒーレント反ストークスラマン分光法 ...
Newport / Spectra-Physics
出力: 30, 10 W
波長: 355, 1,064 nm
... 脆性材料切断に最適なレーザー光源と、微細加工用の柔軟なUVソリューションを、物理的にコンパクトで経済的な設計で実現しました。 Rapid LXは、パルスエネルギーと操作の柔軟性を独自に組み合わせ、前世代のUSPレーザーと比較して部品単価を大幅に削減しました。脆性材料の切断、フラットパネルディスプレイの微細加工、マイクロエレクトロニクスの加工に最適です。 1064nmで最大250μJの単一パルスエネルギー、または355nmで最大50μJのパルスエネルギーを選択でき、優れたビーム品質でシングルショットから5MHzまでの繰り返し周波数で作業することができます。 ...
COHERENT/コヒーレント
出力: 5 W
波長: 532 nm
... -接続ライン 5000 mm -ポジショニングレーザーによる被写体プレビュー -スマートアジャスト -その他の作業領域 -3d機能 -レーザースモークエクストラクション ...
出力: 50 W
波長: 1,030 nm
TruMicro 5000シリーズにより、様々な材料を低コストで高速に加工できるようになります。工業産業での使用に完璧に適しており、品質、生産性及び収益性のすべてにおいて最適化された加工を実現できます。ピコ秒及びフェムト秒レーザは、超短パルスと最大500 μJに達する高いパルスエネルギーを誇ります。
TRUMPF Maquinaria, S.A.
出力: 20, 35, 50 W
波長: 1,030 nm
... マイクロプロセッシングおよび科学的アプリケーションの研究開発のためのフェムト秒レーザー/タンジェリンは、高い繰り返し速度（最大40MHzまで、ニーズに応じて調整可能）と250μJまでのパルスあたりの高エネルギーを組み合わせた強力な超高速レーザーです。 汎用性とフル機能、タンジェリンフェムト秒レーザーが装備されている：カスタマイズ機能FemtoBurst™（パルスの数、そのリズム、25〜100nsの間の各パルスの間の時間、等）、個々のパルスを選択するためのオンデマンドトリガー、より多くを得るためにSuperSyncコントロール高速スキャンシステムとの正確な同期, ...
出力: 0.035 W
波長: 355 nm
... 応用分野：質量分析、レーザー顕微分析、レーザー誘起蛍光、バイオテクノロジー、ハイテク研究開発 特長： パルス持続時間が短いアクティブQスイッチド動作モード 外部 ／ 内部トリガ、RS-232 によるPC 制御による長期安定性の向上 OEM 版と完全なCDRHレーザーシステムを使用したフィードバックが利用可能です 超紫、緑、赤外線スペクトル範囲（全 3つの高調波）で出力-特別な要求に応じて利用可能です ...
Laser-export Co.
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