ピコ秒レーザー
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出力: 1,000, 500, 200 W
波長: 1,030 nm
... Diraレーザーは、他の追随を許さないTRUMPFの薄ディスク技術に基づいた、フェムト秒からピコ秒のパルス幅を持つ再生増幅器です。このシリーズは、高パルスエネルギーと高平均出力の両方が要求される応用実験で優れた性能を発揮します。 薄ディスク形状のおかげで、Diraは1kHzから200kHzの繰り返し周波数において、キロワットレベルの平均パワーを超えるほぼ回折限界のビーム品質を維持します。 お客様に愛用されているDira 200-1は、第3世代となりました。長い実績を誇るこの200Wモデルは、1kHzで200mJのパルスを600fsのパルス幅で供給します。 この成功に基づき、平均出力500W(Dira ...
出力: 30, 20, 25, 50 W
波長: 355, 532, 1,064 nm
... IceFyre®はマイクロマシンニング用ピコ秒レーザーとして特許出願中の新技術を採用。卓越したパーフォーマンス、かつ先例のないコストパーフォーマンスを実現。「It’s in the Box」コンセプトを用いたレーザーと電源を一体化し、業界で最もコンパクトな産業用ピコ秒レーザーです。 先例の無い柔軟性かつ卓越したパフォーマンス IceFyre UV50は、市場で最も高性能なピコ秒UVレーザーであり、バーストモードにおいて100μJのパルスエネルギーと10psのパルス幅で、1.25MHz ...
出力: 50 W
... ピコ秒レーザーマーカーは、部品へのマーキングや彫刻を高精度で行うための最新ツールです。特徴的な赤外波長は、あらゆる金属材料や多くのプラスチック材料と効果的に相互作用します。この光源は超高速レーザーカテゴリーに属し、ピコ秒オーダーのレーザーパルス持続時間が特徴です。光ファイバー構造は、非常に高い品質基準で、汎用性と長期にわたる耐久性を保証します。このレーザーは、消耗品なしで永久的な高解像度のマーキングを可能にします。ピコ秒レーザーは、マーキング品質の面で大きな利点を提供し、高コントラストのマーキングと耐腐食性が重要な医療、家電、宝飾品分野に最適です。 ピコ秒ファイバーレーザーは、ピコ秒(10~12秒)オーダーの超短レーザーパルスを発振する能力により、産業用マーキングの分野で最も先進的な技術の一つです。この非常に短い相互作用時間により、材料への熱影響が大幅に低減され、熱影響部(HAZ)の形成が最小限に抑えられ、マーキングされた材料の溶融や変形が防止される。極めて高い精度により、非常に微細なマーキングが可能で、非常に高い解像度と鮮明さが要求される用途に最適です。光ファイバー構造は、システムの堅牢性と信頼性を高めるだけでなく、自動生産ラインへの統合に理想的な柔軟な構成を可能にします。 ...
出力: 1 W - 8 W
波長: 350 nm
... UVマーキングレーザーは、紫外線の高い吸収率により、非常にデリケートな素材に高コントラストのマーキングを行うことができます。フライUVは光化学プロセスによって製品表面を着色し、マーキングによって発生する熱は非常に限られているため、コンポーネントを損傷することはありません。20nsの標準的なパルス時間により、このレーザーは、透明または着色プラスチック、医療用プラスチック、電子部品ハウジング用の高付加性プラスチックなど、さまざまな用途で最適な結果を保証します。このレーザーは、医療分野、家電製品、ガラスマーキングに最適である。 UVマーキングレーザーは、紫外線スペクトルの一部である355nmの波長を使用し、デリケートな素材に高解像度のマーキングを実現する。その効率は、ターゲット素材によるUV放射の高い吸収率に由来し、熱影響を最小限に抑えながら正確なマーキングを可能にする。マーキングプロセスは主に光化学的で、熱の発生を抑え、デリケートな部品の構造的損傷を防ぎます。UV放射の高い吸収指数と20nsのパルス時間により、この技術は透明または着色プラスチック、医療材料、電子部品に使用される高性能プラスチックへのマーキングに特に適している。UVレーザーは、微小破壊を避けることが不可欠なガラスへのマーキングにも最適です。自動化された生産環境への統合は、システムの多用途性と高速生産ラインでの高精度な動作能力によって容易になり、マーキングの品質と耐久性が重要な分野にとって不可欠なツールとなっている。 ...
出力: 0.001 W - 0.01 W
波長: 375 nm - 642 nm
... 主 な事実:ピコ秒およびCWモードレーザーは、50 秒までの超短パルスと連続波(CW)を放射することができます。 最新のハイエンド品質エレクトロニクスによって、ピコ秒モードでの低パルス対パルス・ジッタが保証され、CWモードでの高い安定性と低ノイズ放射が保証されます。 ユーザーが調整可能なパルス形状 ピコ秒モードでは、パルス形状をソフトウェア制御で快適に形状、高さ、繰り返し速度で調整できます。 「低電力」モードでは、レーザーはアフターシュート/ショルダーなしでガウス状のパルスを生成します。 ...
波長: 800 nm
... Pulsar TWは、ハイフィールドサイエンス向けの最先端の高強度レーザーです。 コンパクトな設置面積で、業界グレードの信頼性とクラス最高の性能を提供します。 このレーザーファミリーは、フェムト秒とピコ秒の両方のタイムスケールで最高の時間品質を保証するように設計されています。 高エネルギーポンプレーザとアンプの最適な結合により、ビーム品質は比類のないものとなっています。 Pulsar TWは、卓越したエネルギーとポインティング安定性で最高強度に達します。 Pulsar TW には、柔軟でユーザーフレンドリーな監視および制御ソフトウェアが組み込まれており、ユーザーエクスペリエンスとシステムの長期的な信頼性をさらに強化します。 ...
Amplitude
出力: 2 W - 300,000 W
波長: 1,064, 532, 355, 266 nm
... picoloシリーズの特許取得済み設計により、サブナノ秒のパルス幅生成と高い繰り返し率が可能になりました。最大320kWのピークパワーと優れたビーム品質により、多くの非線形光学およびマイクロマシニングのアプリケーションで優れた結果を得ることができます。ピコ秒のタイミングジッター、266nmまでのハーモニックオプション、オプションのファイバー伝送ソリューションにより、ピコロは様々な分光およびイメージングアプリケーションに対応できる汎用性の高いツールになります。 - コンパクトなレーザーヘッドと電源、小さなフットプリント - ...
出力: 8 W - 50 W
波長: 1,064, 532, 355 nm
... 脆性材料や超硬材料の加工に広く使用され、パネル・ディスプレイ、太陽光発電、半導体などの産業における微細加工のボトルネックを完全に解決する。 しっかりとした耐久性のある工業用機械設計 超短パルス出力 <10ps バースト・パルス列モード出力、最大63個 単一の脈拍- 4MHz 繰返しの頻度 需要に応じた周波数分割が可能、最大数31 POL/POD出力&コンピュータ・リモート・コントロール オプションで2波長出力機能 温湿度検知セルフプロテクト機能 用途 1. ガラス、サファイア、セラミックスなどの脆性材料の微細加工 2. ...
出力: 0.7, 0.4 W
波長: 700 nm - 1,950 nm
... ピコ秒レーザー チューナブル ピコ秒レーザーpicoEmeraldは、2ピコ秒(他の時間帯も可能)の超短パルスを発振します。このピコ秒レーザーの波長チューニングは、700~990 nm(シグナル)、1080~1950 nm(アイドラー)の範囲で完全に自動化されています。1032 nmの基本波ビームも利用可能です。特定の波長を高速に取得する波長スキャン/スイープ機能を搭載しています。 picoEmeraldの主な特徴は以下の通りです。 - 波長1 赤外線ビーム 1032 nm - 波長2 700 ...
出力: 5.5 W - 30 W
波長: 1,560, 1,064, 1,550 nm
... 超高速ファイバーレーザー Neptecの超高速ファイバーレーザーの製品群は、特に医療科学や材料加工のアプリケーション向けに設計されています。ネプテックのパルス型超高速ファイバーレーザーは、ピコ秒パルス、狭いスペクトル線幅、偏光維持機能を特徴としており、完全な出力安定性のもとで動作します。ネプテックの超高速ファイバーは、成長を続ける新しい先進的なレーザーアプリケーション市場に必要な精度とパワーを提供します。 ネプテックは、信頼性の高いカスタマイズ可能なファイバーレーザー製品とソリューションを提供することに誇りを持っています。下記の標準的な超高速ファイバーレーザーがお客様の用途に合わない場合は、お客様の仕様を検討し、超高速ファイバーレーザーのお見積もりをさせていただきます。 製品情報 主な特徴 - ...
波長: 1,064, 355, 532 nm
... ダイオードポンプ式ソリッドステートレーザーは、厳しい産業用アプリケーションおよび24 時間 365 日の動作向けに設計されています。 ガウスビームプロファイルと長期的な安定性を提供します。 用途 -半導体 -太陽光発電 -ポリマー加工 -金属加工 -ガラス加工 ...