サブナノ秒レーザー

波長: 213 nm - 2,940 nm

... 高エネルギーレーザーには、ランプ励起（LPSシリーズ）とダイオード励起（DPSシリーズ）があります。医療、科学研究、材料加工、工業用途に広く使用されています。266nm、355nm、532nm、1064nm、1573nmなどがあります。532 nmグリーンレーザーの単一パルスエネルギーは450 mJまで、1064 nm赤外レーザーのエネルギーは20 Jまで可能です。 アプリケーション - 高エネルギーレーザー リモートセンシング PIV、LIBS マーキングと彫刻 レーザー修理 レーザーポンプソース 材料加工 ...

出力: 2 W - 300,000 W
波長: 1,064, 532, 355, 266 nm

... picoloシリーズの特許取得済み設計により、サブナノ秒のパルス幅生成と高い繰り返し率が可能になりました。最大320kWのピークパワーと優れたビーム品質により、多くの非線形光学およびマイクロマシニングのアプリケーションで優れた結果を得ることができます。ピコ秒のタイミングジッター、266nmまでのハーモニックオプション、オプションのファイバー伝送ソリューションにより、ピコロは様々な分光およびイメージングアプリケーションに対応できる汎用性の高いツールになります。 - コンパクトなレーザーヘッドと電源、小さなフットプリント - ...

出力: 2,500, 5,000 W
波長: 1,064, 532, 355 nm

... MAGNAプラットフォームは、picoloシリーズの特許取得済み共振器設計とSpitLightファミリーの業界標準のアンプ設計に基づき、最大2ジュールのパルスエネルギーでサブナノ秒パルスを生成し、4ギガワットのピークパワーを発生させます。また、カスタマイズされたアンプ設計も可能です。 - 高エネルギー: 500 psのパルス幅で最大2ジュール - 高ピークパワー：最大4ギガワット - サブナノ秒帯の発振器と増幅器をモノリシック筐体に統合 - アクティブQスイッチ、ジッタ400ps以下 - 高エネルギーサブナノ秒パルスが新しい実験を可能にする - ...

出力: 2,500 W
波長: 1,064, 532, 355 nm

... MAGNAプラットフォームは、picoloシリーズの特許取得済み共振器設計とSpitLightファミリーの業界標準アンプ設計に基づき、最大出力30W、最大パルス周波数1kHzのサブナノ秒のパルスを生成します。カスタマイズされたアンプ設計と幅広いオプションが利用可能です。 - 500psのパルス幅で25W以上 - 最大1000 Hzのパルス繰り返し周波数 - 完全なダイオード励起 - アクティブQスイッチ、ジッタ400ps以下 - ダイオードの長寿命、低メンテナンス - 優れたビーム品質とポインティングスタビリティ - ...

出力: 50 W
波長: 532 nm

... このレーザー製品は、オールファイバー光学設計を採用し、回折限界に近いサブナノ秒レーザーを安定的に出力します。 製品の特徴 1) サブナノ秒パルス 2) 高いパルスエネルギーとピークパワー 3) 調節可能な繰返し周波数 4) 回折限界に近いビーム品質 5) コンパクト構造、小型 用途 1) 切断、穴あけ、スクライビング (ガラス、シリコン、セラミック) 2) 薄膜パターン（金属、薄膜） 3) マーキング（ガラス、シリコン、セラミック、金属、プラスチック） ...

出力: 80 W
波長: 1,064 nm

... 1) サブナノ秒パルス 2) 高いピークエネルギーとピークパワー 3) 調整可能な繰り返し周波数 4) 回折限界に近いビーム品質 5) コンパクト構造、小型 用途 1) 切断、穴あけ、スクライビング (ガラス、シリコン、セラミック) 2) 薄膜パターン（金属、薄膜） 3) マーキング（ガラス、シリコン、セラミック、金属、プラスチック） ...