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流量: 1.2 m³/h - 1,709.1 m³/h
吐出圧力: 500,000 Pa - 1,000,000 Pa
ガス純度: 97 % - 99.999 %
... 概要 圧縮空気から現場で直接窒素を生成します。NITROBERG®製品ファミリーは、97%から99.999%までの8つの純度グレードと、1.2～1,709.1 Nm³/hの出力範囲をカバーする18モデルで構成されています。 システムはドイツで設計・製造されており、PED 2014/68/EU（NB 2912）に基づく適合性評価を受けています。 仕組み オンサイト窒素発生では、お客様の圧縮空気を原料として、周囲の空気から窒素を分離します。一般的な分離技術として、圧力スイング吸着（PSA）と中空糸膜システムがあります。NITROBERG® ...
BERG Kompressoren GmbH
流量: 1 m³/h - 500 m³/h
吐出圧力: 5 bar - 10 bar
ガス純度: 99.9 % - 99.999 %
... 概要
超クリーンな圧縮空気と高純度の現地生成窒素は、PCB組立や半導体製造からレーザー切断、部品保管、クリーンルーム自動化に至る電子機器製造で重要なユーティリティです。BERGは歩留まりを守り、窒素調達コストを低減し、圧縮空気とN₂インフラを一括で提供するターンキーシステムを設計します。
主な利点と認証
- Made in Germany
- ISO 9001:2015
- オイルフリー認証 / ISO 8573-1
BERG Kompressoren GmbH
流量: 119.1 m³/h
吐出圧力: 800,000 Pa - 1,100,000 Pa
ガス純度: 97 % - 99.999 %
... 概要
NITROBERG® 1700 窒素発生器 — 公称能力 119.1 Nm3/h（99.99% N2）。プロセス要件に応じた純度調整と安定供給を目的とした現場設置型ソリューションです。
性能
窒素濃度 | 97% | 98% | 99% | 99.5% | 99.9% | 99.99% | 99.995% | 99.999%
能力 (Nm3/h) | 579.3 | 465.6 | 384.4 | 335.7 | 222.0 | 119.1 ...
BERG Kompressoren GmbH
流量: 4.8 m³/h - 42.8 m³/h
吐出圧力: 800,000 Pa - 1,100,000 Pa
ガス純度: 97 % - 99.999 %
... 概要
NITROBERG® 800 窒素発生器。PSA方式による高純度窒素生成：8.8 Nm3/h（99.99% N2）。電子部品の製造（はんだ付け、リフロー、部品保管）や、現場での純度制御が必要な産業用途向けに設計されています。
性能 - 窒素純度 / 能力（抜粋）
窒素純度: 97% | 98% | 99% | 99.5% | 99.9% | 99.99% | 99.995% | 99.999%
能力 (Nm3/h): 42.8 | ...
BERG Kompressoren GmbH
流量: 6.2 m³/h
吐出圧力: 800,000 Pa - 1,100,000 Pa
ガス純度: 99.99 %
... 製品情報
NITROBERG® 700 窒素発生器
6.2 Nm3/h（99.99%）
容量表（抜粋）
窒素含有率：97% | 98% | 99% | 99.5% | 99.9% | 99.99% | 99.995% | 99.999%
容量（Nm3/h）：30.0 | 24.1 | 19.9 | 17.4 | 11.5 | 6.2 | 4.8 | 3.4
圧縮空気係数：2.3 | 2.3 | 2.6 | 2.9 | 3.4 ...
BERG Kompressoren GmbH
吐出圧力: 6 bar - 12 bar
ガス純度: 95 % - 99.999 %
定格出力: 72 W
... ハイフロー - PSA技術 - 最大200.3 NM3/H 電子部品組立/はんだ付け, 食品包装, ICP, レーザー切断, LC-MS, NMR, オイル・ガス, 試料蒸発, ワイン醸造(醸造) トルネードシリーズ窒素発生装置は、窒素ガス供給におけるユニークで革新的なソリューションを提供します。液体窒素や高圧ガスボンベを必要とせず、既存の圧縮空気から信頼性の高い窒素を供給することができます。トルネード窒素発生装置は、連続運転が可能で、酸素濃度10ppmから5％の純度で、数リットル/分からNM3/H以上の流量を生成することが可能です。このジェネレーターは最新のHMIタッチスクリーン技術で制御され、プロセス、圧力、吸気露点、酸素濃度を表示し、アラーム付きの連続モニタリングが可能です。 経済的 - ...
ガス純度: 95 % - 99.9 %
... 製品概要
Mairui の膜式窒素発生装置は、要求される窒素純度、流量、供給圧力および設置環境に応じて構成され、現場での継続的な窒素供給を実現します。産業用途向けの構成です。
主な特長
- 要求される窒素純度に合わせて構成可能
- 需要に応じた流量のスケーラビリティ
- 設置要件に合わせた供給圧力の調整が可能
- 現場での継続的な窒素発生を前提とした設計
用途
- 産業プロセスおよびラボ支援のための現場窒素供給
技術仕様
- Brand:
流量: 40 ft³/h - 100,000 ft³/h
ガス純度: 95 % - 99.9995 %
... 純粋な窒素の生成は、はんだ付けプロセスの成功のために最も重要な側面の1つです。窒素は、はんだ付けプロセスに不可欠な要素です。窒素雰囲気なしではんだ付けを行うと、はんだ接合部が酸化する可能性があります。個々の部品は、冷蔵庫から電子レンジ、モバイル機器から人工衛星、軍事用ハードウェアからゲーム機まで、今日の回路基板が機能する過酷な環境下で期待される長期的な信頼性を維持することはできません。 リフロー工程における回路基板の信頼性も、制御された窒素環境で飛躍的に向上します。大気開放雰囲気」でのリフローはんだ付けは、長期的な信頼性に欠ける部品をはんだ付けする可能性があり、多くの場合、欠陥が発生します。このような品質不良は、窒素発生装置を使用して制御された窒素環境を作り出し、業界標準を満たすか上回る純度レベルのオーブン雰囲気を実現することで回避できます。 Gas ...
Gas Generation Solutions
... 窒素発生装置は半導体やシリコンウエハー製造にどのように使われていますか？ 半導体やウェハー製造における窒素の最も重要な使用法は、パージ、フラッシング、デポジション、コンスタントフィードの4つです。 驚くべきことに、半導体の製造において窒素は実際のプロセスガスとしてはあまり使用されていません。しかし、窒素は必要不可欠なガスと考えられている。これは、窒素の使用量、さまざまな用途の数、購入にかかる年間コストの点から見てのことである。というのも、窒素は主にパージガスとして使用されるからだ。半導体メーカーは、プロセスチャンバー、真空システム、廃棄物除去システム、配管のパージに大量の窒素ガスを使用します。窒素ジェネレーターは、半導体やシリコンウェーハの製造にガスが必要とされるすべての用途に理想的なソリューションです。当社のジェネレーターは、供給される窒素に比べて低コストで大量の高純度ガスを生成することができます。 ...
Gas Generation Solutions
... 製品の説明 ガス・ジェネレーション・ソリューションズは、現場での窒素製造用に高性能液体窒素発生装置を提供し、高価な配送の必要性を排除します。当社のシステムは、研究所、不妊治療クリニック、研究施設、および工業生産アプリケーション向けに設計されています。 主な特徴と利点 ✅ オンデマンド窒素生産 - 第三者への配送に頼ることなく、信頼性の高い連続供給が可能。 ✅ コンパクト＆産業用モデル - 研究所、リサーチセンター、大規模製造向けの拡張可能なソリューション。 ✅ コスト効率とエネルギー効率 - ...
Gas Generation Solutions
吐出圧力: 6 bar - 10 bar
ガス純度: 96 % - 99.999 %
... 製品概要
N2 BOX ユニットは屋外設置を想定した、自己完結型の移動可能な窒素供給ステーションです。気象から保護されており、必要に応じて別の設置場所へ容易に移動できます。
一般説明
N2 BOX は、圧縮空気の前処理と内蔵の窒素 PSA 発生器を組み合わせた窒素生成ソリューションで、工業用窒素をオンデマンドで供給します。
ユニットの構成
- コンプレッサー
- 圧縮空気フィルトレーション
- 湿分分離
- 圧縮空気乾燥
- 水/油分離
- 活性炭塔
- 窒素