露光システム
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... プリント基板ばく露機サニー-ZBG320 1. 用途:プリント基板の製造工程における線の露出加工、耐溶接、文字インクグラフ 2. 構造的特徴:大面積の効果的な露光領域、露光操作のためのより多くのPCBをサポートする、高度な真空ポンプ、PCBをフィルムに近づける、フィルム照準光源を備えた露光機、フィルム照準穴の操作に便利; 3. 制御システム:高性能 ARM 組み込みプロセッサ + 組み込みオペレーティングシステム、マンマシンインターフェース:大画面カラー液晶画面 + タッチスクリーン 4。 ...
... OAI Model 2000 露光装置は、エッジビーズ露光装置(2000SM)またはフラッド露光装置(2000AF)として構成することができ、どちらの構成もOAI社の実績あるプラットフォームをベースとしています。 モデル2000露光機の両バージョンには、UV光源、強度制御電源、ロボット基板ハンドリングサブシステムが含まれています。UV光源は、発散半角<2.0%の強度調整可能なビームを提供します。電源は、200Wから2,000Wまで用意されています。光源に直接接続された強度コントローラーセンサーにより、正確な強度のモニタリングが可能です。ロボット基板ハンドリングシステムは、マイクロプロセッサで制御され、さまざまな基板サイズに対応するようにプログラムすることができます。シャドウマスク機能により、ユーザーはマスクに非常に接近した状態で、基板の上部をパターン化することができます。25ミクロンの距離で、6ミクロンの解像度が得られます。 エッジビーズ露光装置は、SM構成において、標準的なシャドウマスク技術を用いたエッジビーズ除去のための費用対効果の高い方法を提供します。マスクと基板の交換は、迅速かつ容易に行うことができ、この量産装置の汎用性とスループットの両方を向上させます。 AF構成では、2000型水中露光機は、生産および研究開発環境におけるフォトリソグラフィープロセスを補強、強化するために使用されます。レジスト安定化、修正、画像反転、PCMプロセスなどに使用されます。 ...
... Q-RACK 屋外暴露ラックは、フロリダ州の Q-Lab とアリゾナ州の Q-Lab で自然屋外暴露テストを実行するために使用されているものと同じアルミ製ラックです。これらのプロ仕様のラックを購入して、ご自身のサイトで暴露テストを実行できるようになりました。 Q-RACK キット、アクセサリ、非標準マウント システムは、さまざまなアプリケーションやテスト要件に対応できます。これらは、屋外テストに関する ISO、ASTM、SAE、およびその他の国際規格に準拠しています。Q-RACK フレームは、水平から ...
... 露光装置 PHILIPS社製露光装置 効率的なバキュームシステム 特注品としてカスタマイズ可能 YD-FP912 露光機 カバーを開閉する自動機械装置◇。 耐久性と安定性に優れたPHILIPS社製の露光装置を採用しています。 露光時間は正確にコントロールされています。 効率的なバキュームシステム。 特殊な製品に合わせて装置をカスタマイズすることができます。 ...