プラズマ源

真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 特長 低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化します。 反応性蒸着ができ、特に酸化促進に効果を発揮します。 高密度プラズマがチャンバー内全域に拡散するため、大面積へハイレートで成膜が可能です。 フランジ取付けではなくチャンバー内へ内蔵するタイプで、さらにビーム照射角度を調整できるため、様々なレイアウトの真空装置へ搭載することができます。 既設の真空チャンバーへ後付けする事もできます。 用途例 プラズマアシスト蒸着 ...

... TruPlasma DCシリーズ3000(G2)は、パルスプロセス電源の代替を含め、多くのDCスパッタリングプロセスに適しています。これは、プログレッシブアークマネージメントが最高のレイヤ品質を保証し、生産歩留まりを大幅に向上させるからです。非常にコンパクトな設計のため、水冷式DCジェネレーターを現在のアプリケーションに非常に簡単に組み込むことができます。 クラス最小のアークエネルギー 0.3 mJ/kW 未満の残留エネルギーが、最高の層品質と高い成膜速度を保証します。 高い出力密度 非常にコンパクトな設計（19インチプラグインユニット）により、大きな出力レベルでも簡単に統合できます。 広い出力範囲 出力は20kW～300kWで、大型発電機の置き換えも可能です。 完全水冷 システムの長寿命化とメンテナンスの低減を実現します。 シンプルなシステム統合 可変ライン電圧（400 ...

... 原子酸素と原子窒素用のRF AtomSource 最適化された設計による電力損失の最小化 放電ゾーンは高品質の材料から製造され、ビーム ゼロイオン電流構成の汚染を最小限に抑えます 高品質の複合材料の成長 理想的には中性の原子種が必要です。 一方、酸素や窒素などの分子ガスは、原子形態に解離した場合よりも反応性が低いことが示されています。 したがって、分子酸素を使用した酸化物の形成には、通常、高温および/または延長された酸化期間が必要ですが、分子窒素は多くの材料に対して反応性がほとんどありません。 ...

... ハイパフォーマンスプラズマソースは、最大限の均一性、最速の切削速度、および機械部品の最長の有用なライフサイクルで、クライアントHyDefinition © 切断品質を提供します。この技術における競合他社の運用コストの半分です。 現在 1 万台以上のシステムが世界中で使用されており、信頼性の高い性能を求めるお客様には、ハイパフォーマンスプラズマが最適なシステムであることは明らかです。 ...