Máquina de deposição por pulverização catódica com magnetron DEIMOS 5500

para espelho

Resumo
O DEIMOS 5500 é um sistema de revestimento a vácuo para óptica de precisão, baseado em pulverização catódica (sputtering magnetron), projetado para aplicar camadas protetoras e aprimoradas em alumínio ou prata sobre grandes espelhos astronômicos, assegurando alta refletância, uniformidade e durabilidade dos revestimentos.

Principais benefícios

• Uniformidade de revestimento — inclinação e distância dos alvos ajustáveis eletricamente para adaptação a substratos curvos, garantindo camadas Al/Ag protegidas ou aprimoradas uniformes.
• Troca rápida de substratos — sistema de trilhos permite mover a metade inferior da câmara para fora da estrutura para acesso total e troca rápida de substratos.
• Opções de alimentação flexíveis — quatro alvos de sputtering com opção de alimentação DC pulsada ou DC conforme os requisitos do processo.

Recursos em destaque

• Inclinação móvel do cátodo — cada alvo pode ser movido e inclinado; acionamentos elétricos garantem posicionamento repetível e configurações podem ser salvas em receitas de produção.
• Pré‑limpeza por descarga MF ou DC — unidades de descarga integradas para limpeza controlada da câmara e remoção de umidade; ciclos armazenáveis em receitas.
• Design de fácil acesso — metade inferior da câmara sobre trilhos facilita o acesso a substratos, alvos e componentes, especialmente para grandes diâmetros (até 4,5 m), simplificando operação e manutenção.

Aplicações
Projetado para revestimentos em espelhos astronômicos e outras ópticas de precisão de grandes dimensões, com camadas de alumínio ou prata protegidas ou aprimoradas quando refletância, uniformidade e durabilidade são requisitos críticos.

Características / especificações técnicas

• Modelo: DEIMOS 5500
• Processo: pulverização catódica (magnetron sputtering) / revestimento a vácuo para óptica de precisão
• Materiais de revestimento: alumínio (Al) e prata (Ag) — camadas protegidas e aprimoradas
• Número de alvos: 4
• Opções de alimentação: DC pulsada ou DC
• Ajuste de alvos: inclinação e distância alvo‑substrato ajustáveis eletricamente; posições salvas em receitas
• Pré‑limpeza: unidades de descarga MF ou DC integradas para remoção de umidade e limpeza; ciclos armazenáveis
• Manuseio de substratos: metade inferior da câmara sobre trilhos para acesso total e troca rápida
• Diâmetro máximo suportado de substrato: até 4,5 m
• Uso previsto: espelhos astronômicos e óptica de precisão que exigem alta refletância, uniformidade e durabilidade
• Operação & manutenção: acesso facilitado a alvos, substratos e componentes para manutenção simplificada e repetibilidade via receitas