Evaporador a vácuo antirreflexo DLC 600

Evaporador a vácuo antirreflexo - DLC 600 - Bühler Group
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Características

Especificações
antirreflexo

Descrição

Visão geral
O LEYBOLD OPTICS DLC 600 é uma máquina de revestimento a vácuo de precisão que utiliza deposição química em fase vapor assistida por plasma (PECVD) para aplicar filmes de carbono tipo diamante (DLC) em componentes ópticos e de imagem térmica. Foi concebido para gerar camadas DLC duras, uniformes e resistentes ao ambiente, otimizadas para aplicações antirreflexo em infravermelho (IR) sobre substratos Ge e Si.

Principais benefícios
  • Compatibilidade ampla de substratos: A retenção por gravidade permite processar formas e geometrias variadas até 300 mm de diâmetro e aproximadamente 30–40 mm de altura.
  • Desempenho IR direcionado: Parâmetros de processo e materiais ajustados para substratos Ge e Si melhoram a transmitância IR e garantem desempenho antirreflexo consistente.
  • Camadas DLC protetoras e duráveis: O sistema deposita filmes DLC extremamente duros e uniformes com elevada resistência ambiental para proteger superfícies ópticas expostas.


Recursos em destaque
Câmara de processo e distribuição de gás — uniformidade de referência: O design da gas shower do DLC 600 assegura distribuição muito uniforme dos gases no interior da câmara, garantindo crescimento de filme consistente e controlo rigoroso da espessura em toda a área de revestimento — crítico para aplicações IR e de baixa luminosidade, como visão noturna e sensores de distância.

Monitorização óptica in-situ — reprodutibilidade das camadas: O sistema integrado OMS 5100 controla o crescimento do filme em tempo real, assegurando tolerâncias de espessura e elevada repetibilidade para que as pilhas de camadas projetadas correspondam ao produto final.

Especificações técnicas
  • Tecnologia de deposição: plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) para filmes DLC.
  • Tipo de revestimento: diamond-like carbon (DLC) — duro, uniforme e resistente ao ambiente.
  • Substratos suportados: Germânio (Ge) e Silício (Si), otimizado para anti-reflexo IR.
  • Diâmetro máximo do substrato: até 300 mm.
  • Altura típica do substrato: aprox. 30–40 mm.
  • Retenção de substrato: retenção por gravidade para variadas geometrias.
  • Controlo de processo: OMS 5100 monitorização óptica in-situ para controlo da espessura e reprodutibilidade.
  • Distribuição de gás: gas shower especializada para uniformidade excecional.
  • Código do produto: CUBE-00010-019.


Aplicações típicas
  • Revestimentos antirreflexo IR para óptica de precisão.
  • Camadas DLC protetoras para dispositivos de visão noturna e sistemas de imageamento térmico.
  • Sensores e componentes em comprimentos de onda IR que exigem revestimentos duráveis e repetíveis.

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