Solvente de limpeza
para eletrônicapara resíduos de gravação

Solvente de limpeza - Fujifilm NDT Systems - para eletrônica / para resíduos de gravação
Solvente de limpeza - Fujifilm NDT Systems - para eletrônica / para resíduos de gravação
Solvente de limpeza - Fujifilm NDT Systems - para eletrônica / para resíduos de gravação - imagem - 2
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Características

Função
de limpeza
Aplicações
para eletrônica, para resíduos de gravação

Descrição

Gravadores Uma gama completa de misturas de agentes de corrosão especiais e patenteados Oferecemos uma vasta gama de proporções diluídas de fluoreto de hidrogénio (HF), agentes condicionadores de óxido tamponado (BOE) especiais - com/sem surfactante, agentes condicionadores de ácido misto (MAE) e agentes condicionadores de metal especiais Linha de produtos Gravadores de óxido tamponado A Fujifilm dispõe de capacidades avançadas para a mistura precisa de gravadores de óxido tamponado com intervalos de especificação de ensaio apertados, disponíveis em vários rácios NH4F:HF Utilizados para gravar películas de SiO2. Utilizados como preparações de superfície de pré-difusão e pré-metalização Formulado a partir de 49% de ácido fluorídrico de alta pureza e 40% de fluoreto de amónio de alta pureza. Disponível com e sem surfactante. HF diluído A Fujifilm possui capacidades avançadas para a mistura precisa de HF diluído com intervalos de especificação de ensaio apertados. Gravura de sardas Para a remoção de nódulos de silício residuais deixados após a gravação de camadas de alumínio-silício-cobre. Gravadores de metais especiais Para a remoção selectiva de camadas de metal específicas, a Fujifilm oferece vários gravadores especiais, incluindo Gravadores Especiais de Alumínio, gravadores de imersão para camadas de metalização de alumínio - Disponíveis com ou sem o Fujifilm Aluminum Etch Surfactant (AES) Custom Engineering.

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