Solvente de limpeza

para eletrônicapara resíduos de gravação

Etchants Uma gama abrangente de misturas de especialidades e de aromas proprietários Oferecemos uma ampla gama de rácios de hidrofluorização diluída (HF), especialidades de óxido tamponado (BOE) - com/sem surfactante, ácidos mistos (MAE) e especialidades de metal gravuras Resumo do produto - Óxido tamponado - A Fujifilm tem capacidades avançadas para a mistura precisa de Etchants tamponados com faixas de especificação apertadas, disponíveis em múltiplos rácios NH4F:HF - Utilizado para gravar filmes de SiO2 - Utilizados como preparações de superfície de pré-difusão e pré-metalização - Formulado a partir de ácido fluorídrico de alta pureza 49% e fluoreto de amônio de alta pureza 40% - Disponível com e sem surfactante - Diluir HF - A Fujifilm tem capacidades avançadas para a mistura precisa de HF diluído com faixas de especificação de ensaio apertadas - Sarda Etch - Para a remoção de nódulos residuais de silício deixados após a gravação de camadas de alumínio-silício-cobre - Misturas de Ácidos - Para a gravura isotrópica de silício (mono e poli-cristalina) - Cânticos Especiais - Utilizado para gravar copos de passivação final pirolíticos depositados e salpicados, a fim de expor as almofadas de ligação de semicondutores para a ligação de fios - Disponível com e sem o nosso surfactante OHS - Cânticos de Metal Especiais Para a remoção selectiva de camadas metálicas específicas, a Fujifilm oferece várias gravuras especiais, incluindo - Cânticos de alumínio especiais: Gravadores de imersão para camadas de metalização de alumínio - Disponíveis com ou sem o Surfactante de Alumínio Fujifilm (AES) - Chrome Etch: uma mistura especial para a aplicação de camadas de cromo