Sistema de exposição de fluxo UV 2000AF

com dispositivo de limpeza de bordas

O OAI Model 2000 Exposure Systems pode ser configurado como um sistema de exposição de esferas de borda (2000SM) ou um sistema de exposição a inundação (2000AF); ambas as configurações são baseadas na plataforma comprovada da OAI, testada no tempo. Ambas as versões do Sistema de Exposição Modelo 2000 incluem uma fonte de luz UV, fonte de alimentação de controle de intensidade e subsistema de manuseio de substrato robótico. As fontes de luz UV fornecem feixes de intensidade ajustável com meios-ângulos de divergência de <2,0%. As fontes de alimentação estão disponíveis de 200W a 2.000W. Os sensores controladores de intensidade estão ligados directamente à fonte de luz para uma monitorização precisa da intensidade. O sistema robótico de manuseio do substrato é controlado por microprocessador e pode ser programado para acomodar uma grande variedade de tamanhos de substrato. A capacidade de máscara de sombra permite ao usuário modelar a parte superior de um substrato enquanto é mantido muito próximo à máscara. Com uma separação de 25 mícrons, estes sistemas são capazes de uma resolução de 6 mícrons. Na configuração SM, o Edge-bead Exposure System fornece um método rentável para a remoção de esferas de borda usando a tecnologia de máscara de sombra padrão. A troca de máscaras e substratos pode ser realizada rápida e facilmente adicionando versatilidade e rendimento a esta ferramenta de produção de alto volume. Na configuração AF, o Sistema de Exposição a Inundações Modelo 2000 é utilizado para aumentar e/ou melhorar os processos de fotolitografia, tanto em ambientes de produção como de P&D. As aplicações incluem estabilização e modificação da foto-resistência, inversão de imagem e processos PCM.