Sistema de litografia para a indústria dos semicondutores JetStep® G45

O Sistema JetStep G45 responde aos requisitos exigentes da indústria de ecrãs móveis. Baseado em tecnologia passo a passo estabelecida, o sistema combina capacidades de desempenho optimizadas com um custo de propriedade superior. Visão Geral do Produto O Sistema JetStep G45 tem 200mm. A óptica de baixa distorção combinada com movimentos de precisão de alta velocidade permite ao sistema obter uma sobreposição de <0.5μm. A óptica de ampliação do sistema JetStep G45 permite a utilização de um retículo de 6 polegadas (máscara), reduzindo significativamente o custo de ferramentas quando comparado com tecnologias concorrentes. Além disso, o sistema apresenta uma pequena pegada, minimiza o custo da instalação, e os seus movimentos sem fricção reduzem o desgaste, o que reduz os custos de manutenção. A poupança combinada resulta num processo de fabrico acessível com CAPEX reduzido e baixo Custo de Propriedade (COO). Especificações - Lente de projecção de alta fidelidade e sistema de iluminação para resolução até 1,5µm - Formato de retículo padrão da indústria de 6 polegadas para fabrico rentável - Controlo automatizado da ampliação aumentou a janela do processo - Sistema de gestão de retículos a bordo para proporcionar a máxima utilização - Pacote de metrologia a bordo para calibração in situ - No foco automático em cada local de exposição para ajustar automaticamente o foco sobre a topologia do painel - Diagnósticos a bordo que fornecem feedback sobre o desempenho do sistema e resolução de problemas