Microscópio de força atômica NX-Mask

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Park NX-Mask é o mais eficaz, seguro e eficiente Sistema de Reparação Photomask para Reparação de Máscaras EUV de alta gama. Fornece uma solução tudo-em-um - desde a revisão automática de defeitos até à reparação e verificação - acelerando a produção com uma eficácia de reparação sem precedentes. Características principais ✔No risco de danos e reparação sem problemas de qualquer tipo de defeitos ✔Compatible com uma cápsula dupla para tratamento de máscaras EUV ✔All-em-uma solução para localização de defeitos e verificação pós-reparação