Sistema de metrologia para wafers XHEMIS EX-2000

FERRAMENTA DE METROLOGIA XRR E FERRAMENTA DE METROLOGIA XRF PARA PRATOS BANCÁRIOS DE ATÉ 200 mm Espessura, densidade, rugosidade e composição dos filmes em bolachas de blanqueta Esta versátil ferramenta de metrologia de raios X utiliza a fluorescência de raios X (XRF) e a reflectividade de raios X (XRR) para a medição não destrutiva de alto rendimento de espessura e densidade de wafers de coberturas que vão desde filmes ultramateriais de camada única até pilhas de multicamadas para o desenvolvimento de processos e controle de qualidade de filmes. CONCEBIDO PARA GRANDES VOLUMES DE PRODUÇÃO O XHEMIS EX-2000 foi concebido para a fabricação de alto volume de wafers de até 200 mm. O excelente alinhamento de fases antes da medição permite a medição rápida e precisa de uma variedade de amostras de wafer. O controle altamente preciso do estágio permite medições de mapeamento completo da superfície em um curto espaço de tempo. FERRAMENTA DE FÁCIL UTILIZAÇÃO Quando equipado com um robô de transferência, o XHEMIS EX-2000 pode manusear wafers automaticamente. AutoCal (uma função de calibração automática) mantém constantes as condições da ferramenta. O software de fácil utilização facilita a operação da ferramenta e a análise de dados. Esta ferramenta pode ser usada para uma variedade de aplicações, desde a pesquisa até a produção para o controle de qualidade. Ampla gama de materiais e aplicações Avaliação simultânea da espessura, densidade e rugosidade do filme Medições de wafer de alto rendimento Resultados absolutos do XRR (não são necessários padrões de calibração) Mapeamento de bolachas completas e medições de alta velocidade por XRF Alta resolução e precisão cobrindo espessuras desde Ångstroms a microns Aceita wafers de 200 mm, 150 mm, 125 mm e 100 mm Função de auto-calibração disponível