自動マスク アライナ EVG®620NT

ウェハー用

EVG® 620 NTは、ウェハサイズ150 mmまでの最小フットプリント領域で最先端のマスクアライメント技術を提供します。 汎用性と信頼性で知られるEVG620 NTは、最小限のフットプリント領域で最先端のマスクアライメント技術を提供し、高度なアライメント機能と最適化された総所有コストを組み合わせます。 半自動または自動構成で利用可能な光学両面リソグラフィに最適なツールです。オプションのフルハウジングGen 2ソリューションにより、大量生産要件と工場標準を満たすことができます。 オペレータに優しいソフトウェア、マスクや工具の変更にかかる時間を最小限に抑え、世界規模での効率的なサービスとサポートにより、あらゆる製造環境に理想的なソリューションとなります。 EVG620 NTまたは完全に収容されたEVG620 NT Gen2マスクアライメントシステムは、統合された振動アイソレーションを備えており、薄くて厚い抵抗の露出、深い空洞のパターン化、同等の地形など、幅広い用途で優れた露出結果を実現します。化合物半導体などの薄くて壊れやすい材料の加工。 さらに、EVG独自のSmartNIL技術は、半自動システム構成と完全自動システム構成の両方でサポートされています。 最大150mm/6''のピースからウェハ/基板サイズの特長 リソグラフィプロセスの多様性をサポートするシステム設計により、 迅速な切り替え時間による複数のウェハサイズの壊れやすい、薄い、または歪んだウェハハンドリングをサポート 近接スペーサによる自動非接触ウェッジ補償シーケンス 自動自動自動自動アライメントキーの正確なセンタリングのための原点 関数リアルタイムオフセット補正機能を備えた動的アライメント機能