自動マスク アライナ

... 製品
LEDチップ製造向けの全自動ウェーハ露光装置（マスクアライナ）。Micro LEDおよび標準LEDウェーハに対応し、2〜4インチ兼用タイプと4〜6インチ兼用タイプの2機種を用意しています。

概要
異なるウェーハサイズ範囲をカバーするために、次の2タイプを提供します：

• 2〜4インチ兼用タイプ
• 4〜6インチ兼用タイプ

... 概要
本ウェーハ露光装置（Mask Aligner）は、高精細露光に最適化された独自のUV光学系と、フォトマスクとウェーハを高精度に平行化する機構を備えています。フルオート露光システムは、Vacuum contact、Soft Contact、Proximity Gapの3種類のギャップ制御モードに対応します。

用途

• パワーデバイス
• CMOSの裏面処理
• MEMS製造
• LED生産
• セラミック基板

• タイプ：フルオートタイプ（2〜12インチまたはスクエア形状対応）
• 光学系：高精細露光に最適化された独自のUV光学系
• ギャップ制御モード：Vacuum

... 概要

• 研究開発および少量生産向けに設計された卓上型ウェハ露光装置（マスクアライナー）。
• ハードコンタクト、ソフトコンタクト、プロキシミティギャップの3種類のギャップ制御に対応。

• ガラス、ウェハ、フィルム、セラミック等の基板処理。
• 研究開発、試作、少量生産向け。

• アライメント選択：手動または自動アライメントを選択可能。
• ギャップ制御選択：自動または手動でのギャップ調整。
• 手動での搬入/搬出により多様な基板に対応。

• 対応ワークサイズ：12インチ、6-8インチ、4-6インチ、2-4インチおよび正方形フォーマット。
• 搬入/搬出：手動。
• アライメント方式：手動または自動（選択可能）。
• ギャップ制御：自動または手動（選択可能）。

... 概要
高精細なガラス露光向けに設計された本システムは、微細パターン露光に最適化されたUV光学系と、フォトマスクと基板を高精度に平行化する機構を統合しています。真空コンタクト、ソフトコンタクト、近接ギャップの各露光モードに対応した全自動動作。マスクサイズに応じて垂直/水平の構成を用意：垂直は大型マスク（G5以上）、水平はG4.5以下を推奨します。

用途
FPD（フラットパネルディスプレイ）、TP（タッチパネル）、CF（セルファブ）製造ラインでのガラス処理に適しています。

仕様

• 対応基板サイズ：G4.5