特徴
- 特性
- ウェハー用, 自動, 卓上, 製造用, 研究所用
詳細
概要- 研究開発および少量生産向けに設計された卓上型ウェハ露光装置(マスクアライナー)。
- ハードコンタクト、ソフトコンタクト、プロキシミティギャップの3種類のギャップ制御に対応。
用途- ガラス、ウェハ、フィルム、セラミック等の基板処理。
- 研究開発、試作、少量生産向け。
主な特長- アライメント選択:手動または自動アライメントを選択可能。
- ギャップ制御選択:自動または手動でのギャップ調整。
- 手動での搬入/搬出により多様な基板に対応。
仕様- 対応ワークサイズ:12インチ、6-8インチ、4-6インチ、2-4インチおよび正方形フォーマット。
- 搬入/搬出:手動。
- アライメント方式:手動または自動(選択可能)。
- ギャップ制御:自動または手動(選択可能)。
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