大型基板用マスク アライナ

全自動製造用

概要
高精細なガラス露光向けに設計された本システムは、微細パターン露光に最適化されたUV光学系と、フォトマスクと基板を高精度に平行化する機構を統合しています。真空コンタクト、ソフトコンタクト、近接ギャップの各露光モードに対応した全自動動作。マスクサイズに応じて垂直/水平の構成を用意：垂直は大型マスク（G5以上）、水平はG4.5以下を推奨します。

用途
FPD（フラットパネルディスプレイ）、TP（タッチパネル）、CF（セルファブ）製造ラインでのガラス処理に適しています。

仕様

• 対応基板サイズ：G4.5 - G8.5
• アライメント精度：±1 μm
• 露光モード：真空コンタクト、ソフトコンタクト、近接ギャップ

主な特長

• 高精細露光に最適化されたUV光学系
• フォトマスクと基板を高精度で平行化する機構
• 選択可能な露光モードを備えた全自動動作
• 構成：垂直（G5以上推奨）および水平（G4.5以下推奨）
• FPD/TP/CFの生産ラインへの組み込みを想定した設計