ライト測定システム UV Wafer
紫外線ウェハー用

ライト測定システム - UV Wafer - KLA Corporation - 紫外線 / ウェハー用
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特徴

物質的特性
ライト
技術
紫外線
測定製品
ウェハー用

詳細

UV Wafer™ in situ紫外線(UV)光300mm測定システムは、ワイヤレスセンサーウエハ技術を利用し、成膜プロセス装置内のウエハ表面におけるUV光の照射量と強度を測定します。これまで不可能だったプロセスの最適化とモニタリングを可能にするUVウエハは、FCVD(流動性)酸化物や低誘電体膜のアニールや硬化に使用されるUVランプからウエハ表面に到達する光の強度に関する時間的・空間的情報を提供します。また、UVウエハは、ランプの経年変化によるドリフトや、不均一な膜特性をもたらすランプ強度のその他の変化を特定することができます。UV Waferは、UVランプサブシステム内の光学系システムの問題を浮き彫りにすることで、エンジニアが最適な硬化プロセスをもたらすプロセスツールの改善を推進するのに役立ちます。 アプリケーション プロセス開発、プロセス検証、プロセスツール検証、プロセスツールモニタリング、プロセスツールマッチング 成膜、UV硬化、UVアニール、UVセンサーモジュール付きウェーハ高さ4mmまたは6mm

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。